特許
J-GLOBAL ID：200903073136441682
マグネトロンプラズマ用磁場発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-336889
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176341
出願日： 1997年12月08日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 マグネトロンプラズマを利用したスパッタリングやエッチング装置に用いられる、広範囲に高均一なプラズマを得ることのできるダイポールリング磁石を備えたマグネトロンプラズマ用磁場発生装置の提供。【解決手段】 リング状に複数の柱状の第一の異方性セグメント磁石10が配設されたダイポールリング磁石1において、上記第一の異方性セグメント磁石10の長さ方向の中央部に空隙4を設け、この空隙4内に第一の各異方性セグメント磁石10の磁化方向と逆の磁化方向をもつ別の第二の異方性セグメント磁石3を設け、さらに第一と第二の異方性セグメント磁石間に形成される間隙の長さを磁場強度の分布の均一化を促すように変じた構成とすることにより、プラズマ空間9の磁場強度の分布をより均一化している。
請求項（抜粋）：
複数の柱状の第一の異方性セグメント磁石が、リング状に配設されたダイポールリング磁石を備えたマグネトロンプラズマ用磁場発生装置であって、上記第一の各異方性セグメント磁石の長さ方向の中央部に空隙が設けられ、この空隙内に上記第一の各異方性セグメント磁石の磁化方向と逆の磁化方向をもつ別の第二の異方性セグメント磁石を設け、前記第一と第二の各異方性セグメント磁石の間に形成される間隙の長さが磁場強度の分布の均一化を促すよう変じられていることを特徴とするマグネトロンプラズマ用磁場発生装置。
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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