特許

J-GLOBAL ID：200903073239375793

カバレージ検査方法

発明者： 伏田 篤郎
出願人/特許権者： 株式会社半導体先端テクノロジーズ
代理人 (1件)： 高田 守 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-063648
公開番号（公開出願番号）：特開2003-264210
出願日： 2002年03月08日
公開日（公表日）： 2003年09月19日
要約：

【要約】【課題】 コンタクトホール内壁に形成された金属膜のカバレージを非破壊で検査する検査方法を提供する。【解決手段】 コンタクトホールの内壁に形成されたPVD-Cu膜のカバレージを検出する方法であって、コンタクトホールの開口率が25%以上である領域にレーザ光を照射し、反射されたレーザ光の強度を測定することによりPVD-Cu膜のカバレージを検査する。

請求項（抜粋）：

コンタクトホール内壁に形成された金属膜のカバレージを検査する方法であって、前記コンタクトホールが複数形成された所定領域にレーザ光を照射する工程と、前記所定領域で反射されたレーザ光の強度を測定して、前記金属膜のカバレージを検査する工程と、を含むことを特徴とするカバレージ検査方法。

IPC (2件)：

H01L 21/66 ,  G01B 11/24

FI (2件)：

H01L 21/66 J ,  G01B 11/24 A

Fターム (23件)：

2F065AA30 ,  2F065AA52 ,  2F065BB02 ,  2F065BB17 ,  2F065CC19 ,  2F065DD06 ,  2F065FF23 ,  2F065FF41 ,  2F065GG04 ,  2F065HH04 ,  2F065JJ01 ,  2F065JJ15 ,  2F065LL37 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR05 ,  2F065RR08 ,  4M106AA01 ,  4M106AA11 ,  4M106BA05 ,  4M106CA16 ,  4M106CA40 ,  4M106DB08 ,  4M106DH03

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-100353   出願人：日本電気株式会社
• 半導体ウェーハの製造方法及び半導体ウェーハ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-020697   出願人：三菱マテリアルシリコン株式会社