特許

J-GLOBAL ID：200903073240947580

円盤状ヒータ

発明者： 下山 暢善 ,  西増 責
出願人/特許権者： 東海高熱工業株式会社
代理人 (1件)： 福田 保夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-329214
公開番号（公開出願番号）：特開2003-133032
出願日： 2001年10月26日
公開日（公表日）： 2003年05月09日
要約：

【要約】【課題】 加熱装置内で円盤状ヒータを水平に設置することができ、且つ被加熱物の均一加熱を可能とした円盤状ヒータを提供する。【解決手段】 帯状ヒータを中央部を除いて直列に、且つ略同心円状に配設してなる円盤状ヒータであって、該円盤状ヒータは、帯状ヒータを円盤状ヒータの直径部近傍に屈曲部を有するよう屈曲させて半円内に直列に配設してなる半円状ヒータを円状に合わせた形状を有し、前記中央部においては空間部が形成され、帯状ヒータが該空間部を囲むよう環状に配設されて並列回路を構成しており、各半円状ヒータの外周側には、それぞれ端子部が互いに対向する位置関係に設けられている。

請求項（抜粋）：

帯状ヒータを中央部を除いて直列に、且つ略同心円状に配設してなる円盤状ヒータであって、該円盤状ヒータは、帯状ヒータを円盤状ヒータの直径部近傍に屈曲部を有するよう屈曲させて半円内に直列に配設してなる半円状ヒータを円状に合わせた形状を有し、前記中央部においては空間部が形成され、帯状ヒータが該空間部を囲むよう環状に配設されて並列回路を構成しており、円盤状ヒータ内での帯状ヒータの配置は前記中央部に対して点対称となっており、各半円状ヒータの外周側には、それぞれ端子部が互いに対向する位置関係に設けられていることを特徴とする円盤状ヒータ。

IPC (3件)：

H05B 3/10 ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/02

FI (3件)：

H05B 3/10 A ,  C23C 16/46 ,  H01L 21/02 Z

Fターム (10件)：

3K092PP20 ,  3K092QA05 ,  3K092QB30 ,  3K092QB45 ,  3K092RF03 ,  3K092RF17 ,  3K092VV22 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030KA23

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 加熱装置及びその製造方法、並びに処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-276278   出願人：東京エレクトロン株式会社, 信越化学工業株式会社
• 面状発熱体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-007345   出願人：松下電器産業株式会社