特許
J-GLOBAL ID:200903073244063465

薄膜磁気ヘッドおよび薄膜磁気ヘッドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外8名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-094314
公開番号(公開出願番号):特開2000-285411
出願日: 1999年03月31日
公開日(公表日): 2000年10月13日
要約:
【要約】【課題】 1μm以下の磁気記録トラック幅の磁気ヘッドにおいて、ギャップデプス設定の正確性を向上し、オーバーライト特性を向上する。【解決手段】 上部コア層47および下部コア層27が後部領域Yから磁極端領域Xに向けて延在してそれらの端面が媒体対向面152に露出し、上部コア層47と下部コア層27との間に設けられたギャップ層45上に、その後部領域Yにノボラック系樹脂からなりポストベークによりアペックス面80aを有する後部絶縁層80を形成し、その磁極端領域Xにギャップ層45を電極とする電気メッキ法により、前記ギャップ層45と接する媒体対向面152から後部絶縁層80までの長さによりギャップデプスGdが確定されるよう上部磁極層46を形成して、後部絶縁層80の上にコイル49の一部が設けられる。
請求項(抜粋):
上部コア層および下部コア層が後部領域から磁極端領域に向けて延在してそれらの端面が媒体対向面に露出され、前記後部領域にて前記上部コア層と前記下部コア層とが接続され、この上部コア層と下部コア層との接続部分の周囲にコイルが設けられ、前記磁極端領域にて前記上部コア層と前記下部コア層との間にギャップ層が設けられてなる構造を有し、前記下部コア層に絶縁層が積層され、該絶縁層の前記磁極端領域に前記媒体対向面から前記後部領域に向けて延在する溝が設けられ、該溝に下部磁極層と前記ギャップ層とが積層され、前記ギャップ層の前記後部領域には後部絶縁層が積層されるとともに、前記ギャップ層の前記磁極端領域には上部磁極層が積層され、前記下部磁極層が前記下部コア層に接続され、前記上部磁極層が前記上部コア層に接続されて、前記上部磁極層により上部磁極端が前記下部磁極層により下部磁極端が構成されてなり、前記後部絶縁層が、前記上部磁極層と前記上部コア層とに接続され、前記上部磁極層が前記ギャップ層と接する前記媒体対向面から後部絶縁層までの長さによりギャップデプスが確定されてなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
FI (3件):
G11B 5/31 D ,  G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 F
Fターム (5件):
5D033BA07 ,  5D033BA13 ,  5D033BA35 ,  5D033DA04 ,  5D033DA31
引用特許:
審査官引用 (2件)

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