特許
J-GLOBAL ID：200903073260169290
露光用マスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-052021
公開番号（公開出願番号）：特開平9-244210
出願日： 1996年03月08日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：
【要約】【課題】 透明基板を掘込むことで位相差を設けるレベンソンマスクにおいて、掘込み構造に起因するレジストの寸法差を極めて少なくする。【解決手段】 露光光に対して透明な基板上に遮光パターンと透明開口部を有し、透明基板が掘込まれかつ掘込み量が隣接した同一寸法を有する開口部で交互に異なるように調整された領域を有するレベンソン型の露光用マスクにおいて、開口パターン寸法とこれに隣接する遮光パターン寸法との差(W1 -W2 )、及び開口パターンの掘込み量D1 ,D2 が、開口パターン寸法とこれに隣接する遮光パターン寸法との和(W1 +W2 )に応じて同時に設定した。
請求項（抜粋）：
露光光に対して透明な基板上に遮光パターンと透明開口部を有し、透明基板が掘込まれかつ掘込み量が隣接した同一寸法を有する開口部で交互に異なるように調整された領域を有する露光用マスクにおいて、前記開口パターン寸法とこれに隣接する遮光パターン寸法との差、及び前記開口パターンの掘込み量が、前記開口パターン寸法とこれに隣接する遮光パターン寸法との和に応じて同時に設定されたことを特徴とする露光用マスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
