特許
J-GLOBAL ID：200903073285785734

静電チャック

発明者：
口町 和一

口町 和一 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-132725
公開番号（公開出願番号）：特開2002-329776
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：
【要約】【課題】シリコンウエハ等の被加工物の温度分布が均一になるように吸着保持することができるとともに、被加工物の離脱性に優れ、かつ吸着時や離脱時におけるパーティクルの発生の少ない静電チャックを提供する。【解決手段】板状セラミック体2の内部又は一方の主面に静電吸着用電極を有する静電チャックにおいて、上記板状セラミック体2の他方の主面に、ガス溝を設け、板状セラミック体2を切断した時の吸着面6の形状を、中央に平坦部10を有する略円弧状凸部8とし、この略円弧状凸部8とガス溝側面9との交点Sから略円弧状凸部8の平坦部10までの高さ(H1)を0.5〜10μmとする。
請求項（抜粋）：
板状セラミック体の一方の主面又は内部に静電吸着用電極を備えるとともに、上記板状セラミック体の他方の主面にガス溝を備え、上記ガス溝で囲まれる領域を吸着面とした静電チャックにおいて、上記板状セラミック体を切断した時の吸着面の形状が、中央に平坦部を有する略円弧状凸部をなし、該略円弧状凸部とガス溝側面との交点から略円弧状凸部の平坦部までの高さが0.5〜10μmであることを特徴とする静電チャック。
IPC (6件)：
H01L 21/68 ,  C23C 14/50 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  B23Q 3/15
FI (6件)：
H01L 21/68 R ,  C23C 14/50 A ,  C23C 16/44 B ,  H01L 21/205 ,  B23Q 3/15 D ,  H01L 21/302 B
Fターム (29件)：
3C016GA10 ,  4K029AA06 ,  4K029CA01 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029JA01 ,  4K030CA04 ,  4K030GA02 ,  4K030KA45 ,  4K030LA15 ,  5F004AA14 ,  5F004BB22 ,  5F004BB29 ,  5F004DA22 ,  5F031CA02 ,  5F031HA05 ,  5F031HA08 ,  5F031HA16 ,  5F031HA34 ,  5F031HA35 ,  5F031HA39 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031MA32 ,  5F031NA05 ,  5F031PA26 ,  5F045BB02 ,  5F045BB15 ,  5F045EM05
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

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