特許
J-GLOBAL ID：200903073299302485
アニオン重合又は制御ラジカル重合によるヒドロキシ-ビニル芳香族ポリマー又はコポリマーの製造方法
発明者：
,
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
津国 肇
, 篠田 文雄
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-551039
公開番号（公開出願番号）：特表2006-506480
出願日： 2003年11月05日
公開日（公表日）： 2006年02月23日
要約：
本発明は、それぞれのモノマーのアニオン重合又は制御ラジカル重合による、ヒドロキシ-ビニル芳香族ポリマー、特に4-ヒドロキシスチレンポリマー又はコポリマーの製造方法に関し、ここでヒドロキシ官能基は、保護基でブロックされ、そしてこの保護基は、後にハロシラン試薬と反応させることにより脱離される。生じた(コ)ポリマーは、狭い分散度を有し、そしてフォトレジストの製造に有用である。
請求項（抜粋）：
1〜2の間の分散度Mw/Mnを有する、分子量分布の狭いヒドロキシ-ビニル芳香族オリゴマー、コオリゴマー、ポリマー又はコポリマーの製造方法であって、
少なくとも1種の、式(I):
IPC (3件)：
C08F 12/14
, C08F 4/00
, G03F 7/033
C08F12/14
, C08F4/00
, G03F7/033
2H025AB16
, 2H025CB17
, 2H025CB56
, 4J015CA00
, 4J015EA04
, 4J100AB07P
, 4J100BA02P
, 4J100BA04P
, 4J100BC43P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100CA31
, 4J100DA04
, 4J100FA03
, 4J100FA08
, 4J100FA19
, 4J100HC77
, 4J100JA38
出願人引用 (3件)
審査官引用 (5件)
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