特許
J-GLOBAL ID：200903089990487550

高分子化合物の製造方法及び該高分子化合物を用いたレジスト材料

発明者：
武田 隆信

武田 隆信 について

, 
渡辺 修

渡辺 修 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-369729
公開番号（公開出願番号）：特開2002-234910
出願日： 2001年12月04日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：
【要約】【解決手段】 式(1)(R2、R3はアルキル、R5はH、OH、アルキル、置換可アルコキシ、ハロゲン又は酸不安定基、R1、R4はH又はCH3、R6、R7はH、CH3、アルコキシカルボニル、CN、又はハロゲン、R8は3級アルキル、nは0〜4、pは正数、q、rは0又は正数で、qとrが同時に0になることはない。)の繰り返し単位を有する高分子化合物を酸触媒を用いて脱保護反応を行う式(2)の繰り返し単位を有する高分子化合物の製造方法。【化1】【効果】 本発明の方法によって得られた高分子化合物をベース樹脂とするレジスト材料は、溶解コントラスト、解像性が高く、露光余裕度がある。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)【化1】(式中、R2、R3は炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表し、またR2、R3は互いに結合して環を形成してもよい。R5は水素原子、ヒドロキシ基、炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、炭素数1〜10の置換可アルコキシ基、ハロゲン原子又は酸不安定基を表し、R1、R4は水素原子又はメチル基を表し、R6、R7は水素原子、メチル基、炭素数2〜10のアルコキシカルボニル基、シアノ基、又はハロゲン原子を表し、R8は炭素数4〜20の3級アルキル基を表す。また、nは0又は1〜4の正の整数である。pは正数、q、rは0又は正数であるが、qとrが同時に0になることはない。)で示される繰り返し単位を有する高分子化合物を酸触媒を用いて脱保護反応を行うことを特徴とする下記一般式(2)【化2】(式中、p1は正数、p2は0又は正数で、p1+p2=pであり、R1〜R8、n、p、q、rは上記と同様の意味を示す。)で示される繰り返し単位を有する高分子化合物の製造方法。
IPC (5件)：
C08F 8/14 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
C08F 8/14 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (40件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  4J100AB07P ,  4J100AB08P ,  4J100AB09P ,  4J100AB10P ,  4J100AL03Q ,  4J100AL04Q ,  4J100AL05Q ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BB00P ,  4J100CA03 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100CA31 ,  4J100DA38 ,  4J100DA39 ,  4J100HA19 ,  4J100HC13 ,  4J100HC78 ,  4J100HE05 ,  4J100HE14 ,  4J100HE41 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 新規重合体
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-331953   出願人：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
  • 新規ポリマー
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-360046   出願人：和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
  • 感放射線性樹脂組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-318802   出願人：ジェイエスアール株式会社

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