特許
J-GLOBAL ID：200903073337611047

基板処理装置およびこの基板処理装置の製造方法

発明者：
松山 茂樹

松山 茂樹 について

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弓削 俊哉

弓削 俊哉 について

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小菅 祥光

小菅 祥光 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 大坪 隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-294865
公開番号（公開出願番号）：特開2005-064349
出願日： 2003年08月19日
公開日（公表日）： 2005年03月10日
要約：
【課題】 仕様決定後に迅速に製品を完成させることが可能な基板処理装置およびこの基板処理装置の製造方法を提供すること。【解決手段】 反射膜処理用ブロック1は、複数の反射防止膜塗布ユニット21と、複数個の熱処理ユニットと、反射防止膜用の塗布液と電力とを供給するためのベース部23と、各反射防止膜塗布ユニット21を装着可能に構成されるとともに、反射防止膜用の塗布液を供給するための管路と電力を供給するための配線とが、そこに装着可能な反射防止膜塗布ユニット21の最大数に対応した数だけ配設された反射防止膜塗布ユニット用フレーム部24と、各熱処理ユニットを装着可能に構成されるとともに、各熱処理ユニット22に電力を供給するための配線が、そこに装着可能な熱処理ユニットの最大数に対応した数だけ配設された熱処理ユニット用フレーム部34とを備える。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
基板を処理するための複数個の処理ユニットと、 前記各処理ユニットにおいて基板の処理に供される薬液と前記各処理ユニットを駆動する電力とを供給するためのベース部と、 前記ベース部の上方に設置され、前記各処理ユニットを装着可能に構成されるとともに、前記各処理ユニットに薬液を供給するための管路と前記各処理ユニットに電力を供給するための配線とが、そこに装着可能な処理ユニットの最大数に対応した数だけ配設されたフレーム部と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  H01L21/68
FI (2件)：
H01L21/30 562 ,  H01L21/68 A
Fターム (15件)：
5F031CA02 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031HA48 ,  5F031HA59 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F046AA28 ,  5F046KA04
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-240807   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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