特許
J-GLOBAL ID：200903073393562482

フォトニック結晶素子

発明者：
山口 淳

山口 淳 について

, 
太田 哲

太田 哲 について


出願人/特許権者：
三洋電機株式会社

三洋電機株式会社 について


代理人 (1件)： ▲角▼谷 浩
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-190771
公開番号（公開出願番号）：特開2007-010927
出願日： 2005年06月29日
公開日（公表日）： 2007年01月18日
要約：
【課題】 AR膜を形成したときに、その光学特性を十分に発揮させ得ることができるフォトニック結晶素子を提供する。【解決手段】 断面三角形の表面形状の基板表面に、誘電体層を順次積層してフォトニック結晶構造を生成する。すなわち、シリコン等の異方性材料にて基板を形成し、これに異方性エッチング処理を施すことにより、基板上に断面三角形状の凹凸面を形成し、その上に誘電体層の多層膜を生成する。このように形成した積層上に、スピンコート法により、膜厚T=λ/(4n)(屈折率n、光の波長をλ)の最終層を形成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
入射光の波長λ以下の凹凸からなる周期構造が面内上に形成された基板上に、異なる屈折率を有する材料を波長λ以下の周期で積層して構成され、最終積層部材料の屈折率をnとしたとき、前記最終積層部の凹凸の頂上部と底部との差がλ/(4n)以下であることを特徴とするフォトニック結晶素子。
IPC (3件)：
G02B 1/11 ,  G02B 6/12 ,  G02B 6/13
FI (4件)：
G02B1/10 A ,  G02B6/12 Z ,  G02B6/12 M ,  G02B6/12 N
Fターム (16件)：
2H147BA14 ,  2H147BF04 ,  2H147BF08 ,  2H147BF11 ,  2H147EA02B ,  2H147EA14A ,  2H147EA16B ,  2H147FA09 ,  2H147FA17 ,  2H147FA29 ,  2H147FE02 ,  2H147GA16 ,  2K009AA02 ,  2K009CC03 ,  2K009DD04 ,  2K009DD15
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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