特許
J-GLOBAL ID:200903073437053297

キャピラリカラム及びその製造方法並びにこれを用いて形成したガスクロマトグラフィ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 絹谷 信雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-198599
公開番号(公開出願番号):特開2004-037416
出願日: 2002年07月08日
公開日(公表日): 2004年02月05日
要約:
【課題】高い分解能を有し、かつ、装置構成がコンパクトなキャピラリカラム及びその製造方法並びにこれを用いて形成したガスクロマトグラフィ装置を提供するものである。【解決手段】本発明に係るキャピラリカラム10は、第1基板11aと第2基板11bとを重ね合わせて構成したものであって、石英ガラスで構成される上記第1基板11a及び第2基板11bの各重ね合わせ面12上に、重ね合わせた時に一致するようにマイクロヒータ13a,13bを設け、各マイクロヒータ13a,13b全体を覆うように第1基板11a及び第2基板11bの各重ね合わせ面12上に純粋SiO2層14を設け、各純粋SiO2層14,14表面のマイクロヒータ13a,13b直上部分に溝15a,15bを形成し、各溝15a,15b内面に試料分析のための固定相膜16を設けたものである。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
第1基板と第2基板とを重ね合わせて構成したキャピラリカラムにおいて、石英ガラスで構成される上記第1基板又は第2基板の重ね合わせ面上にマイクロヒータを設け、そのマイクロヒータ全体を覆うように第1基板又は第2基板の重ね合わせ面上にガラス層を設け、そのガラス層表面のマイクロヒータ直上部分に溝を形成し、その溝内面に試料分析のための固定相膜を設けたことを特徴とするキャピラリカラム。
IPC (4件):
G01N30/60 ,  G01N30/48 ,  G01N30/54 ,  G01N30/56
FI (6件):
G01N30/60 K ,  G01N30/60 D ,  G01N30/48 K ,  G01N30/54 D ,  G01N30/54 G ,  G01N30/56 E
引用特許:
審査官引用 (14件)
全件表示

前のページに戻る