特許
J-GLOBAL ID：200903073439487677

プラズマプロセス異常を検出するための周波数モニタリング

発明者：
ボン ス パク

ボン ス パク について

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ス ヨン チェ

ス ヨン チェ について

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ジョン エム ホワイト

ジョン エム ホワイト について

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ホン スン キム

ホン スン キム について

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ジェイムズ ホフマン

ジェイムズ ホフマン について


出願人/特許権者：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 安齋 嘉章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-241852
公開番号（公開出願番号）：特開2008-091332
出願日： 2007年09月19日
公開日（公表日）： 2008年04月17日
要約：
【課題】RF駆動プラズマプロセスチャンバ内の異常状態を、可変周波数RF電源の周波数が設定した上下限外に移動したかどうかを検出することにより、検出する。【解決手段】第1の態様において、第1の対の周波数の上下限が、新たなプロセスステップ開始後、又はサンプル制御信号の状態変化後、サンプリングされた電源の周波数の関数として設定される。第2の態様において、第2の対の周波数の上下限は、電源の周波数に適応されない。両態様を一緒に用いて、異常状態の異なる発生を検出するのが好ましい。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
可変周波数RF電源がRF電力をプラズマチャンバ内の異常RFインピーダンスに供給する時に信号を生成する装置であって、 サンプル入力と制御入力と出力とを有するサンプルホールド回路であって、前記サンプル入力がRF電源により供給されているRF電力の周波数を表す周波数制御信号を受けるように適応されており、前記制御入力が少なくとも第1の状態と第2の状態とを有するサンプル制御信号を受けるように適応されており、前記サンプル制御信号が前記第1の状態から前記第2の状態まで変化した時の最新の前記周波数制御信号の値をその出力で維持するサンプルホールド回路と、 前記周波数制御信号を受けるよう適応された第1のコンパレータ回路であって、前記第1のコンパレータ回路が前記周波数制御信号により表される前記周波数を第1の周波数下限及び第1の周波数上限と比較し、前記周波数制御信号により表される前記周波数が前記第1の周波数下限より小さい又は前記第1の周波数上限より大きい時は、第1の警告信号を生成する第1のコンパレータ回路とを含み、 前記第1のコンパレータ回路は前記サンプルホールド回路の前記出力を受けるために接続されており、 前記第1のコンパレータ回路は前記サンプルホールド回路の前記出力に応答して前記第1の周波数下限及び前記第1の周波数上限を設定し、前記第1の周波数下限及び前記第1の周波数上限が、夫々、前記サンプルホールド回路の前記出力により表される前記周波数より小さい及び大きいようにする装置。
IPC (5件)：
H05H 1/00 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/306 ,  C23C 16/505 ,  H05H 1/46
FI (5件)：
H05H1/00 A ,  H01L21/31 C ,  H01L21/302 103 ,  C23C16/505 ,  H05H1/46 R
Fターム (11件)：
4K030CA06 ,  4K030CA12 ,  4K030FA04 ,  4K030KA39 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18 ,  5F004CB05 ,  5F004CB07 ,  5F045AA08 ,  5F045EB05 ,  5F045GB08
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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