特許

J-GLOBAL ID：200903073536559100

基板処理装置

発明者： 久井 章博 ,  松家 毅 ,  金山 幸司
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-043339
公開番号（公開出願番号）：特開2003-243295
出願日： 2002年02月20日
公開日（公表日）： 2003年08月29日
要約：

【要約】【課題】 再生処理における不良基板の搬送負担を軽減することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 基板に対する所定の処理を行う基板処理装置1に、検査ユニットとしてのCD測定ユニット10と、再生処理ユニットとしてのアッシャユニット11と、洗浄処理を行う洗浄ユニットSSとを設ける。基板処理装置1において、基板に対するレジスト塗布処理、露光処理、現像処理などを行い、現像処理が終了した時点で、搬送ロボットTRにより、CD検査ユニット10に基板を搬送し、現像処理により形成されたレジストの線幅が所定値の範囲内か否かの検査を行う。線幅が所定値から外れている基板は、アッシャユニット11に搬送してレジストを除去することにより再生処理を行い、洗浄ユニットSSで洗浄処理した後、再度、基板処理装置1における所定の処理を行う。

請求項（抜粋）：

基板に対してそれぞれ所定の処理を実行する複数の処理ユニットと、前記複数の処理ユニット間で前記基板を搬送する搬送機構と、を備えて一体化された基板処理装置であって、前記複数の処理ユニットに前記基板に対する再生処理を行う再生処理ユニットが含まれることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/26 501

FI (2件)：

G03F 7/26 501 ,  H01L 21/30 562

Fターム (17件)：

2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096LA30 ,  5F046CD01 ,  5F046CD05 ,  5F046CD06 ,  5F046DA29 ,  5F046DD06 ,  5F046HA03 ,  5F046JA04 ,  5F046JA22 ,  5F046KA04 ,  5F046LA01 ,  5F046LA18 ,  5F046MA12

引用特許：

審査官引用 (3件)

• レジストパターン形成装置及び基板検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-183432   出願人：株式会社東芝
• 塗布、現像装置及び塗布現像処理における基板再生システム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-024178   出願人：東京エレクトロン株式会社
• 特開平4-025013