特許
J-GLOBAL ID:200903073567793705

エキシマレーザ光学素材用合成石英ガラス部材およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山本 亮一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-182189
公開番号(公開出願番号):特開平8-040736
出願日: 1994年08月03日
公開日(公表日): 1996年02月13日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 本発明はArFエキシマレーザに対して照射中の吸光度が 0.005cm-1以下の優れた耐久性を有するArFエキシマレーザ光学素材用合成石英ガラス部材およびその製造方法の提供を目的とするものである。【構成】 本発明のArFエキシマレーザ光学素材用石英ガラス部材は、波長 193nm付近の光内部透過率が99%以上で、ArFエキシマレーザ照射中の吸光度が0.005cm-1 以下、OH基含有量が100ppmを超え1,100ppm以下で、塩素含有量が1ppm 以下であり、水素分子含有量が1×1016molecules/cm3 以下であることを特徴とするものであり、この製造方法はアルコキシシランの酸水素火炎による直接法からなる水素分子を含有し、かつ塩素を含有しない合成石英ガラス部材において、水素分子含有量が1×1017〜1×1019molecules/cm3 の範囲の合成石英ガラス部材を熱処理によって水素分子含有量を低減させることを特徴とするものである。
請求項(抜粋):
波長 193nm付近の光内部透過率が99%以上で、OH基含有量が100ppmを超え1,100ppm以下で、塩素含有率が1ppm 以下であり、水素分子含有量が1×1016molecules/cm3 以下であることを特徴とするエキシマレーザ光学素材用合成石英ガラス部材。
IPC (4件):
C03B 20/00 ,  C01B 33/18 ,  C03B 8/04 ,  C03C 3/06
引用特許:
審査官引用 (7件)
全件表示

前のページに戻る