特許

J-GLOBAL ID：200903073866638406

反射防止構造体を有する部材の製造方法

発明者： 梅谷 誠 ,  田村 隆正
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小笠原 史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-067239
公開番号（公開出願番号）：特開2006-251318
出願日： 2005年03月10日
公開日（公表日）： 2006年09月21日
要約：

【課題】 サブミクロンピッチの非常に細かなパターンを有する反射防止構造体を、X線リソグラフィを用いて容易に製造するための反射防止構造体を有する部材の製造方法を提供する【解決手段】 X線マスク1をX線の照射方向を法線とする面Lに対してθだけ傾けて配置する。この状態のX線マスク1を介して部材2の表面にX線を露光する。これにより、部材2の表面には、X線マスク1のマスクパターンpよりも小さいピッチであるpcosθのピッチを有する露光パターンが形成される。次いで、露光された部材2を現像する。これにより、部材2の表面には、X線マスク1のマスクパターンよりも微細なピッチを有する反射防止構造体が形成される。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

X線露光法により部材の表面に反射防止構造体を形成するための方法であって、 X線マスクを介して、少なくとも構造体形成面を感光性材料にて形成された部材に向けてX線を露光する露光工程と、 露光された前記部材を現像する現像工程とを備え、 前記露光工程は、前記X線マスクを前記X線の照射方向を法線とする面に対して傾けて配置した状態で当該X線を露光することを特徴とする、反射防止構造体を有する部材の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 1/11 ,  C25D 1/10 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 ,  G21K 1/06

FI (7件)：

G02B1/10 A ,  C25D1/10 ,  G02B1/02 ,  G03F7/20 503 ,  G21K1/06 B ,  G21K1/06 C ,  G21K1/06 D

Fターム (12件)：

2H097BB03 ,  2H097CA15 ,  2H097GB02 ,  2H097LA17 ,  2K009AA01 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD12 ,  2K009DD15 ,  2K009DD17

引用特許：

出願人引用 (4件)

• カバーガラス及び光学部品
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-307671   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 表面処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-088524   出願人：科学技術振興事業団, 高原浩滋
• X線照射を用いた材料の加工方法及び加工装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-202223   出願人：学校法人立命館
• 特許第3521205号公報