特許
J-GLOBAL ID:200903073907727656

インクジェットヘッドの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-030112
公開番号(公開出願番号):特開2006-213002
出願日: 2005年02月07日
公開日(公表日): 2006年08月17日
要約:
【課題】 吐出面が1平面で、2段の断面形状のノズル孔を有するインクジェットヘッドのノズルプレートを簡単に形成可能な製造方法を提供する。【解決手段】 吐出面が1平面で、2段の断面形状のノズル孔を有するインクジェットヘッドのノズルプレートにおいて、第2のノズル孔とインク供給口を異方性ドライエッチング加工する工程と、前記異方性ドライエッチング加工をした面に酸化膜を形成する工程と、前記異方性ドライエッチング加工をした面とは反対の面から、第1のノズル孔を異方性ドライエッチング加工し第2のノズル孔と第1のノズル孔とを開孔させる工程と、を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
第1のシリコン基板と第2のシリコン基板とを接合して構成され、第1のノズル孔と前記第1のノズル孔に連通しかつ第1のノズル孔より断面積の大きい第2のノズル孔とからなるインクノズルと、圧力変動によって対応するインクノズルからインク液滴を吐出させる複数の圧力室と、各圧力室にインクを供給するインクリザーバと、各圧力室とインクリザーバとを連通するインク供給口と、を有するインクジェットヘッドの製造方法にあって、 第1のシリコン基板の一面に前記第2のノズル孔とインク供給口とを異方性ドライエッチング加工により形成する工程と、前記異方性ドライエッチング加工した面に酸化膜を形成する工程と、前記異方性ドライエッチング加工した面とは反対の面に第1のノズル孔を異方性ドライエッチング加工により形成する工程と、第2のシリコン基板に圧力室及びインクリザーバをエッチング加工により形成する工程と、第1のシリコン基板と第2のシリコン基板とを接合する工程と、からなることを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
IPC (4件):
B41J 2/135 ,  B41J 2/16 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055
FI (3件):
B41J3/04 103N ,  B41J3/04 103H ,  B41J3/04 103A
Fターム (11件):
2C057AF93 ,  2C057AG14 ,  2C057AG54 ,  2C057AP12 ,  2C057AP13 ,  2C057AP31 ,  2C057AP32 ,  2C057AP34 ,  2C057AP53 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA04
引用特許:
出願人引用 (2件)

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