特許
J-GLOBAL ID：200903073914949451

異種薄膜作成装置

発明者：
小林 正彦

小林 正彦 について

, 
沼沢 陽一郎

沼沢 陽一郎 について


出願人/特許権者：
キヤノンアネルバ株式会社

キヤノンアネルバ株式会社 について


代理人 (1件)： 保立 浩一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-134850
公開番号（公開出願番号）：特開2007-221171
出願日： 2007年05月21日
公開日（公表日）： 2007年08月30日
要約：
【課題】 高アスペクト比のホールの内面に十分な被覆性でコンタクト膜バリア膜のような異種薄膜を真空中で作成できるようにする。【解決手段】 コンタクト膜を作成するスパッタチャンバー2とコンタクト膜の上にバリア膜を作成するCVDチャンバー3とがセパレーションチャンバー1を介して気密に接続されており、セパレーションチャンバー2には基板9を真空中で搬送する搬送機構11と、内部に不活性ガスを導入する不活性ガス導入系12と、セパレーションチャンバー1内の圧力がCVDチャンバー3の圧力より高くCVDチャンバー3の残留ガスが所定のレベル以下になったのを確認したのを確認した後にゲートバルブ31を開ける制御部6とを備えている。【選択図】 図3
請求項（抜粋）：
基板の表面に異種の薄膜を作成する異種薄膜作成装置であって、 セパレーションチャンバーを介して気密に接続された複数の処理チャンバーを有し、これら複数の処理チャンバーのうちの一つはスパッタリングによって第一の種類の薄膜を作成するスパッタチャンバーであり、別の一つは第一の種類とは異なる第二の種類の薄膜を化学的気相成長によって作成するCVDチャンバーであり、 セパレーションチャンバーとスパッタチャンバーとの間には、ゲートバルブが設けられており、 前記セパレーションチャンバー内の圧力が前記スパッタチャンバー内の圧力より低い場合に前記セパレーションチャンバーと前記スパッタチャンバーとの間のゲートバルブを開ける制御を行う制御部を備えていることを特徴とする異種薄膜作成装置。
IPC (5件)：
H01L 21/285 ,  H01L 21/768 ,  C23C 14/34 ,  C23C 14/56 ,  C23C 16/54
FI (6件)：
H01L21/285 S ,  H01L21/285 C ,  H01L21/90 C ,  C23C14/34 T ,  C23C14/56 G ,  C23C16/54
Fターム (48件)：
4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA17 ,  4K029BC03 ,  4K029BD02 ,  4K029CA05 ,  4K029CA13 ,  4K029DC03 ,  4K029DC27 ,  4K029DC34 ,  4K029DC40 ,  4K029KA01 ,  4K029KA09 ,  4K030AA03 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA18 ,  4K030BA38 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA03 ,  4K030GA12 ,  4K030HA04 ,  4K030LA15 ,  4M104BB14 ,  4M104BB30 ,  4M104DD23 ,  4M104DD37 ,  4M104DD39 ,  4M104DD44 ,  4M104FF17 ,  4M104FF18 ,  4M104FF22 ,  4M104HH13 ,  5F033HH18 ,  5F033HH33 ,  5F033JJ18 ,  5F033JJ33 ,  5F033KK01 ,  5F033NN06 ,  5F033NN07 ,  5F033PP06 ,  5F033PP15 ,  5F033PP21 ,  5F033QQ92 ,  5F033QQ94 ,  5F033QQ98 ,  5F033XX02
引用特許：
出願人引用 (7件)
  • 特開平04-118925号公報
  • 圧力調整装置及びこれを用いた部屋の連通方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-119405   出願人：東京エレクトロン株式会社, テル・バリアン株式会社, テル・エンジニアリング株式会社
  • 特開平04-099268号公報
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審査官引用 (4件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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