特許
J-GLOBAL ID:200903074021620903

反射防止面用防汚コーティング層および調製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-505239
公開番号(公開出願番号):特表2001-512170
出願日: 1997年12月03日
公開日(公表日): 2001年08月21日
要約:
【要約】反射防止面、特に反射防止フィルムスタックの外面に適用する防汚コーティング層であって、前記防汚コーティング層はフッ素化シロキサン、好ましくは次式【化1】の式中フッ素化シランのコーティング組成物を適用することで生成するフッ素化シロキサンであり:Rfは任意に1つ以上のヘテロ原子を含む過フッ素化基であり;R1は1つ以上のヘテロ原子で置換されるかまたは官能基で置換されるかした、約2〜約16個の炭素原子を含有する二価のアルキレン基、アリーレン基、またはそれらの混合物であり;R2は低級アルキル基であり;Xはハロゲン、低級アルコキシ基、またはアシルオキシ基であり;xは0または1である防汚コーティング層。
請求項(抜粋):
反射防止面とその上に付着させた厚さ約100オングストローム未満の防汚コーティング層とを有する基材を含む反射防止物品であって;ここで前記防汚コーティング層は次式:【化1】のフッ素化シランを含有するコーティング組成物を適用することで生成するフッ素化シロキサンを含み、式中:Rfは1つ以上のヘテロ原子を任意に含む過フッ素化基であり;R1は1つ以上のヘテロ原子で置換されるかまたは官能基で置換されるかした、約2〜約16個の炭素原子を含有する二価のアルキレン基、アリーレン基、またはそれらの混合物であり;R2は低級アルキル基であり;Xはハロゲン、低級アルコキシ基、またはアシルオキシ基であり;xは0または1である反射防止物品。
IPC (4件):
C09D 4/00 ,  B32B 9/00 ,  C08J 7/04 ,  G02B 1/10
FI (4件):
C09D 4/00 ,  B32B 9/00 Z ,  C08J 7/04 Z ,  G02B 1/10 Z
Fターム (49件):
2K009AA03 ,  2K009BB02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD04 ,  2K009EE03 ,  2K009EE05 ,  4F006AB39 ,  4F006AB74 ,  4F006BA11 ,  4F006BA14 ,  4F006DA01 ,  4F006DA04 ,  4F100AA17C ,  4F100AK52B ,  4F100AL06B ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100BA10C ,  4F100CC00B ,  4F100EH66C ,  4F100GB41 ,  4F100GB90 ,  4F100JL06 ,  4F100JM02C ,  4F100JN06B ,  4F100YY00C ,  4J038DL071 ,  4J038DL081 ,  4J038DL091 ,  4J038JA02 ,  4J038JA11 ,  4J038JA26 ,  4J038KA06 ,  4J038MA07 ,  4J038NA05 ,  4J038NA19 ,  4J038PA18 ,  4J038PB05 ,  4J038PB08 ,  4J038PB09 ,  4J038PC01 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08
引用特許:
審査官引用 (7件)
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