特許

J-GLOBAL ID：200903074118998838

洗浄装置および洗浄方法

発明者： 菅野 至 ,  大森 寿朗 ,  田中 博司 ,  土井 伸昭
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社 ,  菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-127984
公開番号（公開出願番号）：特開平8-318181
出願日： 1995年05月26日
公開日（公表日）： 1996年12月03日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、基板上の汚染物を効率よく除去することができるように改良された装置を提供することを主要とする。【構成】 当該装置は、液滴21を基板1に向けて噴出する噴出ノズル11を備える。噴出ノズル11には、液体供給手段23およびガス供給手段22が接続される。噴出ノズル11内には、噴出ノズル11内に供給された液体と気体とを混合し、液体を液滴21に変える混合手段が設けられている。

請求項（抜粋）：

基板の表面上に付着している汚染物を除去する洗浄装置であって、液滴を前記基板に向けて噴出する噴出ノズルと、前記噴出ノズルに接続され、該噴出ノズル内に液体を供給する液体供給手段と、前記噴出ノズルに接続され、該噴出ノズル内に気体を供給するガス供給手段と、前記噴出ノズル内に設けられ、該噴出ノズル内に供給された前記液体と前記気体とを混合し、前記液体を前記液滴に変える混合手段と、を備える洗浄装置。

IPC (8件)：

B05B 7/00 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/06 ,  B05D 1/02 ,  B08B 3/02 ,  B08B 5/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (8件)：

B05B 7/00 ,  B01F 3/04 Z ,  B01F 5/06 ,  B05D 1/02 Z ,  B08B 3/02 Z ,  B08B 5/02 ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 Z

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特開平3-296475
  
• 気液噴射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-224975   出願人：青山好高
• 特開昭60-090061
  
• 基板洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-165387   出願人：日立造船株式会社
• ワーク洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-172223   出願人：セイコーエプソン株式会社