特許
J-GLOBAL ID:200903074160964226

紫外線洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 上島 淳一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-042848
公開番号(公開出願番号):特開平11-221535
出願日: 1998年02月09日
公開日(公表日): 1999年08月17日
要約:
【要約】【課題】被洗浄物の表面にある腐食しやすい材料の腐食の発生を避けるとともに、被洗浄物の表面に付着した有機物の除去効果を十分に達成する。【解決手段】波長172nm±20nmの紫外線を吸収しない照射窓24を備えるとともに波長172nm±20nmの紫外線の酸素による吸収を防止した紫外線ランプ・ハウジング20内に、波長172nm±20nmの紫外線を照射する紫外線ランプ22を配置し、紫外線ランプ22から照射された波長172nm±20nmの紫外線を照射窓24を通して被洗浄物16へ照射する紫外線洗浄装置において、照射窓24の被洗浄物16と対向する外表面24aと被洗浄物16の照射窓24と対向する表面16aとの間の距離Lを0<L≦5mmとした。
請求項(抜粋):
波長172nm±20nmの紫外線を吸収しない照射窓を備えるとともに波長172nm±20nmの紫外線の酸素による吸収を防止したハウジング内に、波長172nm±20nmの紫外線を照射する紫外線ランプを配置し、前記紫外線ランプから照射された波長172nm±20nmの紫外線を前記照射窓を通して被洗浄物へ照射する紫外線洗浄装置において、前記照射窓の前記被洗浄物と対向する表面と前記被洗浄物の前記照射窓と対向する表面との間の距離Lを0<L≦5mmとしたことを特徴とする紫外線洗浄装置。
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-248850   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
  • 表面処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-039418   出願人:株式会社日立製作所
審査官引用 (2件)
  • 基板処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平7-248850   出願人:大日本スクリーン製造株式会社
  • 表面処理装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-039418   出願人:株式会社日立製作所

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