特許

J-GLOBAL ID：200903074228596310

液処理装置及び液処理方法

発明者： 錦戸 修一
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (2件)： 井上 俊夫 ,  水野 洋美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-160078
公開番号（公開出願番号）：特開2005-340661
出願日： 2004年05月28日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：

【課題】 静止した状態の基板の表面に処理液を供給して処理するにあたり、基板の裏面側に処理液が回り込むのを抑制して良好に洗浄すること【解決手段】 基板保持部に水平に保持された基板に処理液を供給して所定の処理を行うにあたり、例えば処理液を供給する前に基板の裏面に全周に亘って対向する吐出口から洗浄液を吐出すると共に、この基板の裏面側に供給された洗浄液及び基板の表面から回り込んでくる液を基板の裏面に全周に亘って吸引口が対向する第1の吸引手段から吸引することにより、基板の裏面に沿って例えば内側から外側に向かって流れる洗浄液の液流を形成する構成とする。この場合、例えば回転による液の振り切り作用を頼らなくとも、基板の表面側から裏面側に回り込む液を抑制することができるので基板を良好に洗浄することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

基板を水平に保持する基板保持部と、 この基板保持部に保持された基板の表面に処理液を供給する処理液供給部と、 前記基板保持部に保持された基板の表面に処理液が供給されて液処理が行われた後、当該基板の表面に洗浄液を供給する洗浄液ノズルと、 前記基板保持部に保持された基板の裏面側の周縁部に洗浄液を供給するために、基板の全周に亘って吐出口が開口する洗浄液供給部と、 この洗浄液供給部により基板の裏面側に供給された洗浄液を吸引して、基板の裏面に沿って内側及び外側の一方側から他方側に向かって流れる洗浄液の液流を形成し、基板の表面側から裏面側に回り込む液を当該洗浄液の液流と共に吸引するために、当該基板の裏面に全周に亘って吸引口が対向する第1の吸引手段と、を備えたことを特徴とする液処理装置。

IPC (5件)：

H01L21/304 ,  B08B3/02 ,  B08B5/04 ,  B08B7/04 ,  H01L21/027

FI (8件)：

H01L21/304 643C ,  H01L21/304 648K ,  H01L21/304 651K ,  H01L21/304 651L ,  B08B3/02 D ,  B08B5/04 A ,  B08B7/04 Z ,  H01L21/30 569F

Fターム (26件)：

3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB48 ,  3B116BB22 ,  3B116BB33 ,  3B116BB44 ,  3B116BB72 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B116CD43 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB48 ,  3B201BB22 ,  3B201BB33 ,  3B201BB44 ,  3B201BB72 ,  3B201BB92 ,  3B201BB98 ,  3B201CB12 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC15 ,  3B201CD43 ,  5F046LA14 ,  5F046LA19

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第2903284号明細書(第2実施例、図11、12)
  
• 特許第3198377号明細書(段落0054、図11)
  

審査官引用 (2件)

• 枚葉式基板洗浄方法および枚葉式基板洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-189794   出願人：エス・イー・エス株式会社
• 液処理装置及び液処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-135226   出願人：東京エレクトロン株式会社