特許
J-GLOBAL ID：200903074286286258
インクジェットヘッドの製造方法、インクジェットヘッドおよびインクジェットプリント装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
谷 義一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-164198
公開番号（公開出願番号）：特開平11-010895
出願日： 1997年06月20日
公開日（公表日）： 1999年01月19日
要約：
【要約】【課題】 インクジェットヘッド基板を貫通して設けられるインク供給口を耐エッチングマスク材料を用いて形成する場合において、信頼性の高いインクジェットヘッドを得ることのできる製造方法を提供する。【解決手段】 異方性エッチングにより基板1にインク供給口5を形成するときに用いた耐エッチングマスクパターンである酸化シリコン層4の除去を行うとき、上記異方性エッチングに伴うサイドエッチングにより生じたひさし状酸化シリコン8が除去するのに十分な除去を行い、かつ完全には除去しないようにする。これにより、インク供給口5に連なるエッチング停止層2をエッチングによって除去する際、このエッチングにより基板1の裏面(シリコン層4に覆われた面)が侵食されずに済み、侵食によるこの裏面の他の部分との間に段差を生じないようにでき、上記ひさし8の除去に併せて以後のヘッド製造工程におけるゴミの発生を防止できる。
請求項（抜粋）：
インクを吐出するためのインクジェットヘッドの製造方法であって、インクジェットヘッドを構成する基板を用意し、該基板の面に、異方性エッチングにより形成する穴に対応したパターンの耐エッチング材マスク層を形成し、異方性エッチングにより前記穴を形成し、前記耐エッチング材マスク層を、当該厚さ方向について所定の厚さで残すように除去する、各ステップを有したことを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B41J 3/04 103 H
, B41J 3/04 103 B
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
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