回転磁石およびインライン型スパッタリング装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-016112
公開番号（公開出願番号）：特開2001-207258
出願日： 2000年01月25日
公開日（公表日）： 2001年07月31日
要約：

【要約】【課題】従来の永久磁石を用いても従来同等以上の強磁場が得られ、またターゲットの非エロージョン領域をなくし、かつ材料利用効率を高くできる回転磁石、およびこの回転磁石を備えたインライン型スパッタリング装置を提供する。【解決手段】ターゲットと対向する平面形状において略8字状に加工した第1の磁石2、第2の磁石3で形成した回転磁石、およびこの回転磁石を組み込んだインライン型スパッタリング装置。

請求項（抜粋）：

マグネトロンカソードのターゲットに対して平行な面内で回転可能に配置される回転磁石において、内周面の周囲を包囲する外周面を有する筒状の永久磁石からなり、前記内周面はターゲットと対向する平面形状において2つの円弧または楕円弧を重ね合わせた略8字状を呈する内周面である第1の磁石と、ターゲットと対向する平面形状において前記第1の磁石の内周面と略相似形をなす外周面を有する永久磁石からなる第2の磁石とを、前記第1の磁石の内周面と前記第2の磁石の外周面とを一定間隔で離間させてヨーク上に固定してなることを特徴とする回転磁石。

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平1-152272
基板をマスキングするための装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-093775 出願人：ジングルステクノロジーズゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
スパッタリング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-220818 出願人：日電アネルバ株式会社

全件表示

前のページに戻る