特許
J-GLOBAL ID：200903074301580575

FePt磁性薄膜の製造方法

発明者：
高橋 有紀子

高橋 有紀子 について

, 
大沼 正人

大沼 正人 について

, 
宝野 和博

宝野 和博 について


出願人/特許権者：
独立行政法人物質・材料研究機構

独立行政法人物質・材料研究機構 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-288171
公開番号（公開出願番号）：特開2003-099920
出願日： 2001年09月21日
公開日（公表日）： 2003年04月04日
要約：
【要約】【課題】 規則化のために成膜後に600°C以上の高温に熱処理したり、高い保磁力を低温で実現するために第3元素を添加したりすることなく、成膜直後に規則化されたL10構造のFePt相を得る。【解決手段】 基板を200〜300°Cに加熱しながらスパッタ法により成膜し、成膜中に薄膜表面で起こる原子の表面拡散によりFePt相の規則化を進行させ、成膜直後に規則化されたL10構造のFePt相を得る。
請求項（抜粋）：
基板を200〜300°Cに加熱しながらスパッタ法により成膜し、成膜中に薄膜表面で起こる原子の表面拡散によりFePt相の規則化を進行させ、成膜直後に規則化されたL10構造のFePt相を得ることを特徴とするFePt磁性薄膜の製造方法。
IPC (8件)：
G11B 5/851 ,  C23C 14/14 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/73 ,  G11B 5/738 ,  H01F 10/14 ,  H01F 41/18
FI (8件)：
G11B 5/851 ,  C23C 14/14 F ,  C23C 14/34 P ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/73 ,  G11B 5/738 ,  H01F 10/14 ,  H01F 41/18
Fターム (32件)：
4K029AA04 ,  4K029AA06 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BA01 ,  4K029BA11 ,  4K029BA16 ,  4K029BA22 ,  4K029BA26 ,  4K029BB02 ,  4K029BC06 ,  4K029BD11 ,  4K029CA05 ,  4K029EA08 ,  5D006BB05 ,  5D006BB07 ,  5D006CA01 ,  5D006CB04 ,  5D006EA03 ,  5D112AA02 ,  5D112AA03 ,  5D112AA05 ,  5D112BA02 ,  5D112BA03 ,  5D112BB02 ,  5D112BB06 ,  5D112BD02 ,  5D112FA04 ,  5E049AA01 ,  5E049BA06 ,  5E049GC01 ,  5E049GC02
引用特許：
審査官引用 (5件)
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