特許
J-GLOBAL ID：200903074422556582

流動層装置における硫黄分の除去方法及び脱硫剤

発明者：
藤原 尚樹

藤原 尚樹 について


出願人/特許権者：
出光興産株式会社

出光興産株式会社 について


代理人 (1件)： 渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-100913
公開番号（公開出願番号）：特開2005-098673
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】 流動層炉における硫黄分の除去方法及び脱硫剤を提供する。【解決手段】 流動層燃焼により燃料及び/又は原料を燃焼させる流動層炉において、炉内で発生するガス中の硫黄分を除去する方法であって、ライムケーキを含む脱硫剤を炉内に投入することを特徴とする硫黄分の除去方法。好ましくは、ライムケーキの粒子径は0.08mm以上であり、燃料及び/又は原料の硫黄分に対する脱硫剤のCa分は0.5〜7(モル比)である。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
流動層装置において、流動層炉内で発生するガス中の硫黄分を除去する方法であって、ライムケーキを含む脱硫剤を流動層炉内に投入することを特徴とする流動層装置における硫黄分の除去方法。
IPC (5件)：
F23C10/00 ,  B01D53/50 ,  B01D53/81 ,  B01J20/04 ,  C10K1/30
FI (4件)：
F23C11/02 304 ,  B01J20/04 C ,  C10K1/30 ,  B01D53/34 124Z
Fターム (38件)：
3K064AA02 ,  3K064AB03 ,  3K064AC01 ,  3K064AC05 ,  3K064AD03 ,  3K064AD05 ,  3K064AD08 ,  3K064AF03 ,  3K064BA03 ,  3K064BA07 ,  3K064BA19 ,  3K064BB03 ,  4D002AA02 ,  4D002AC04 ,  4D002BA03 ,  4D002DA05 ,  4D002DA16 ,  4D002DA66 ,  4D002FA03 ,  4D002GA01 ,  4D002GB08 ,  4D002GB12 ,  4D002HA08 ,  4G066AA43B ,  4G066AA75B ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066CA23 ,  4G066DA02 ,  4G066FA26 ,  4G066FA37 ,  4H060BB02 ,  4H060BB03 ,  4H060BB04 ,  4H060BB22 ,  4H060CC04 ,  4H060DD12 ,  4H060FF03
引用特許：
審査官引用 (4件)
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