特許

J-GLOBAL ID：200903074435025730

機能性薄膜の形成方法及び機能性薄膜形成装置

発明者： 渡邉 正則 ,  鈴木 泰雄 ,  戸田 忠夫
出願人/特許権者： 渡邉 正則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-281116
公開番号（公開出願番号）：特開2007-092108
出願日： 2005年09月28日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：

【課題】高濃度のプラズマを生成し、薄膜成長速度を向上して生産性を向上するとともに被加工基材表面への損傷を抑制し、優れた機能性表面を形成する方法及び装置を提供する。【解決手段】真空容器内にプラズマ励起用アンテナと高電圧パルス印加用電極と被加工基材を設置し、所定の元素を含む原料ガスを導入して前記プラズマ励起用アンテナに高周波電力を印加して放電プラズマを励起し、前記高電圧パルス印加用電極に高電圧パルスを印加して高密度プラズマを発生させ、前記被加工基材にバイアス電圧又はパルス電圧を印加して所定の元素を含む機能性薄膜を形成する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

真空容器内にプラズマ励起用アンテナと高電圧パルス印加用電極と被加工基材を設置し、所定の元素を含む原料ガスを導入し、前記プラズマ励起用アンテナに高周波電力を印加して放電プラズマを励起し、前記高電圧パルス印加用電極に高電圧パルスを印加して高密度プラズマ及び高濃度ラジカルを発生させ、前記被加工基材にバイアス電圧又はパルス電圧を印加して所定の元素を含む機能性薄膜を形成することを特徴とする機能性薄膜の形成方法。

IPC (3件)：

C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H05H 1/46

FI (3件)：

C23C16/50 ,  H01L21/205 ,  H05H1/46 L

Fターム (24件)：

4K030AA04 ,  4K030AA06 ,  4K030AA09 ,  4K030BA28 ,  4K030BA30 ,  4K030CA01 ,  4K030CA02 ,  4K030CA04 ,  4K030CA17 ,  4K030DA03 ,  4K030FA01 ,  4K030JA17 ,  4K030JA18 ,  4K030KA15 ,  4K030KA20 ,  4K030KA30 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AF03 ,  5F045BB01 ,  5F045DP11 ,  5F045DQ10 ,  5F045EH19

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 表面改質方法及び表面改質装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-335549   出願人：経済産業省産業技術総合研究所長, 株式会社栗田製作所, 宮川草児, 宮川佳子, 斎藤和雄
• 微細溝内薄膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-186528   出願人：渡邉正則