特許
J-GLOBAL ID：200903074461662250
データ解析装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-107536
公開番号（公開出願番号）：特開2009-257937
出願日： 2008年04月17日
公開日（公表日）： 2009年11月05日
要約：
【課題】CD-SEM画像からパターンのエッジを抽出する際にパターン上における高さ(基板からの距離を表す値)を指定してエッジ点を抽出する。あるいは、それを行って得られるLER値やLERのフーリエスペクトルを得る。【解決手段】あらかじめ同じサンプルをAFMとCD-SEMとで観察しておき(601)、AFM観察結果から、高さを指定して得られるLERの大きさやLERの自己相関距離あるいはスペクトルという指標を求め、さらにCD-SEM観察結果からは、エッジ点を検出する画像処理条件を指定して得られるこれらの指標を求め(602)、値が一致するときにその値を与える高さと画像処理条件とが対応していると判断し(603)、以降、AFM観察の代わりにCD-SEM画像からこの画像処理条件を用いてエッジ点を抽出する。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
処理部と表示部とを有するデータ解析装置であって、
前記処理部は、
走査型プローブ顕微鏡により基板上のラインパターンを観察して得られる結果を前記基板に平行な平面で切った断面データから、前記ラインパターンのエッジ点のラフネスの特徴を表す第一ラフネスパラメータを求め、
前記第一ラフネスパラメータの値を一方とし、前記平面の前記基板からの距離を表す値をもう一方とした第一のグラフを前記表示部に表示し、
走査型電子顕微鏡による前記基板上面からの前記ラインパターンの観察像から、画像処理条件に従って抽出した前記ラインパターンのエッジ点の第二ラフネスパラメータを求め、
前記第二ラフネスパラメータの値を一方とし、前記画像処理条件を表す値をもう一方とした第二のグラフを前記表示部に表示する、
ことを特徴としたデータ解析装置。
IPC (3件)：
G01B 15/04
, G01N 13/10
, G01B 21/20
G01B15/04 K
, G01N13/10 121B
, G01B21/20 F
2F067AA13
, 2F067AA26
, 2F067AA45
, 2F067AA53
, 2F067AA54
, 2F067BB04
, 2F067CC17
, 2F067EE10
, 2F067HH06
, 2F067JJ05
, 2F067KK04
, 2F067RR14
, 2F067RR31
, 2F067RR35
, 2F067RR44
, 2F067SS13
, 2F069AA42
, 2F069AA60
, 2F069AA64
, 2F069AA66
, 2F069BB15
, 2F069CC06
, 2F069GG01
, 2F069GG52
, 2F069NN10
, 2F069NN16
出願人引用 (1件)
-
測定装置のための評価及び最適化
公報種別：公表公報
出願番号：特願2004-563147
出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
審査官引用 (2件)
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