特許

J-GLOBAL ID：200903074511801078

基板処理装置及び基板処理方法

発明者： 黒田 修 ,  折居 武彦
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-215505
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031538
出願日： 2001年07月16日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：

【要約】【課題】 待機中の供給手段から発生する雰囲気が処理後の基板に悪影響を及ぼす心配がなく,また,供給手段を基板処理雰囲気や他の供給手段から発生する雰囲気で汚染する心配のない基板処理装置及び基板処理方法を提供する。【解決手段】 基板Wを保持する保持手段59と,保持手段59に保持された基板Wに対し処理液または処理ガスを供給する供給手段50を備えた基板処理装置において,保持手段59を囲むアウターチャンバー43を設け,アウターチャンバー43の外部に供給手段50を設け,供給手段50が出入する開閉自在な開口48’をアウターチャンバー43に設けた。

請求項（抜粋）：

基板を保持する保持手段と,前記保持手段に保持された基板に対し処理液または処理ガスを供給する供給手段を備えた基板処理装置において,前記保持手段を囲むアウターチャンバーを設け,前記アウターチャンバーの外部に前記供給手段を設け,前記供給手段が出入する開閉自在な開口を前記アウターチャンバーに設けたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/304 643 ,  B08B 3/02 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

FI (4件)：

H01L 21/304 643 A ,  B08B 3/02 B ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500

Fターム (22件)：

2H088FA21 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H090JC19 ,  3B201AA01 ,  3B201AB01 ,  3B201AB08 ,  3B201AB23 ,  3B201AB33 ,  3B201AB42 ,  3B201AB44 ,  3B201BB21 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201BB95 ,  3B201BB98 ,  3B201CA03 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD11 ,  3B201CD22 ,  3B201CD33

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 処理液吐出ノズルおよび基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-030195   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-106679   出願人：大日本スクリーン製造株式会社