特許
J-GLOBAL ID：200903074546956457
ポジ型化学増幅型レジスト組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
久保山 隆
, 中山 亨
, 榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-085686
公開番号（公開出願番号）：特開2004-004669
出願日： 2003年03月26日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】感度、残膜率を高く維持しつつ、解像度を向上できるポジ型化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】〔1〕架橋剤、酸発生剤、並びにそれ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用により解裂しうる保護基を有し、該保護基が解裂した後はアルカリ水溶液に可溶性になる樹脂を含有するポジ型化学増幅型レジスト組成物。〔2〕架橋剤が式(I)で表される化合物またはその縮合物である〔1〕に記載の組成物。(式中、R1〜R4は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜6個のアルキル基、炭素数1〜6個のアミノアルキル基、炭素数1〜6個のヒドロキシアルキル基、6〜20個の置換もしくは非置換のアリール基、または炭素数2〜6のアルコシキアルキル基を表す。ただし、R1〜R4のうち少なくとも1つは、炭素数2〜6のアルコシキアルキル基である。R1、R2のいずれかと、R3、R3のいずれかとが、互いに結合して環を形成していてもよい。)【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
架橋剤、酸発生剤、並びにそれ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用により解裂しうる保護基を有し、該保護基が解裂した後はアルカリ水溶液に可溶性になる樹脂を含有することを特徴とするポジ型化学増幅型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039
, G03F7/004
, H01L21/027
G03F7/039 601
, G03F7/004 501
, H01L21/30 502R
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB28
, 2H025CC17
, 2H025CC20
