特許
J-GLOBAL ID：200903007343511655

化学増幅ポジ型レジスト

発明者：
井谷 俊郎

井谷 俊郎 について


出願人/特許権者：
日本電気株式会社

日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 堀 城之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-345738
公開番号（公開出願番号）：特開平11-167205
出願日： 1997年12月02日
公開日（公表日）： 1999年06月22日
要約：
【要約】【課題】 レジストパターンのT型形状をほば完全に解消し、矩形なレジストパターンを得ること。解像性、焦点深度、寸法精度の向上を図ること。【解決手段】 少なくともアルカリ難溶の保護基を有する樹脂と光酸発生剤とから成る化学増幅ポジ型レジスト材料において、架橋剤として機能するヘキサメトキシメチルメラミンを添加したことを特徴とする。架橋剤のヘキサメトキシメチルメラミンの添加量を、対ベース樹脂比1〜10%とする。
請求項（抜粋）：
少なくともアルカリ難溶の保護基を有する樹脂と光酸発生剤とから成る化学増幅ポジ型レジスト材料において、架橋剤として機能するヘキサメトキシメチルメラミンを添加したことを特徴とする化学増幅ポジ型レジスト。
IPC (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
引用特許：
審査官引用 (4件)
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