特許
J-GLOBAL ID:200903074551818143

水素ガスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (9件): 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  小原 健志 ,  中川 博司 ,  舘 泰光 ,  斎藤 健治 ,  藤井 淳 ,  関 仁士 ,  中野 睦子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-216188
公開番号(公開出願番号):特開2004-059336
出願日: 2002年07月25日
公開日(公表日): 2004年02月26日
要約:
【課題】比較的低温で水素を製造する方法を提供すること。【解決手段】脱水素触媒の存在下、水素分圧を下げながら水素含有有機化合物を脱水素反応させることにより水素ガスを生成させることを特徴とする水素ガスの製造方法【選択図】 なし
請求項(抜粋):
脱水素触媒の存在下、水素含有有機化合物を脱水素反応させることにより水素ガスを生成させることを特徴とする水素ガスの製造方法。
IPC (1件):
C01B3/26
FI (1件):
C01B3/26
Fターム (6件):
4G140DA01 ,  4G140DA03 ,  4G140DB05 ,  5H027AA02 ,  5H027BA13 ,  5H027BA16
引用特許:
審査官引用 (6件)
  • 特開昭62-269753
  • 脱水素方法およびその装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-179484   出願人:住金化工株式会社, エヌ・イーケムキャット株式会社
  • 特開昭63-083033
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