特許

J-GLOBAL ID：200903074558431791

気相成長装置及び気相成長方法

発明者： 坪井 俊樹
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-289928
公開番号（公開出願番号）：特開2009-141343
出願日： 2008年11月12日
公開日（公表日）： 2009年06月25日
要約：

【課題】冷媒をシャワープレートの全域に流れるようにすることにより、ガスのシャワープレートでの反応によるシャワープレートにおけるガス吐出孔の目詰まりを回避し得る気相成長装置及び気相成長方法を提供する。【解決手段】冷媒バッファエリア22bの周囲には、冷媒流入開口Hin及び冷媒排出開口Houtを有する冷媒用開口付きリング22dを介して環状の冷媒外環室27が設けられている。冷媒外環室27は、冷媒導入口38aから冷媒が導入される冷媒外環導入室27aと、冷媒導入口38aの対向位置に設けられた冷媒排出口39aから冷媒が排出される冷媒外環排出室27bと、冷媒外環導入室27aと冷媒外環排出室27bとを区画する冷媒外環室隔壁27cとを備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ガスを吐出する複数のガス吐出孔を配設したシャワープレートを介して被成膜基板を収容する成長室内に該ガスを供給して上記被成膜基板に成膜する気相成長装置において、 シャワープレート上に、上記ガスを充満させるガス中間室と、上記ガスを冷却する冷媒を充満させる冷媒中間室とが、該冷媒中間室をシャワープレート側にして順に積層され、 上記冷媒中間室には、上記ガス中間室から上記シャワープレートの複数のガス吐出孔に連通する複数のガス供給管が貫通して設けられ、 上記冷媒中間室の周囲には、冷媒用開口を有する冷媒用開口付き環状壁を介して環状の冷媒外環室が設けられ、 上記冷媒外環室は、冷媒導入口から冷媒が導入される冷媒外環導入室と、該冷媒導入口の対向位置に設けられた冷媒排出口から冷媒が排出される冷媒外環排出室と、上記冷媒外環導入室と冷媒外環排出室とを区画する隔壁とを備えていることを特徴とする気相成長装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/455

FI (2件)：

H01L21/205 ,  C23C16/455

Fターム (17件)：

4K030AA05 ,  4K030AA11 ,  4K030EA05 ,  4K030FA10 ,  4K030GA06 ,  4K030KA26 ,  4K030LA14 ,  5F045AA04 ,  5F045AB09 ,  5F045AC01 ,  5F045AC08 ,  5F045AC12 ,  5F045BB08 ,  5F045BB15 ,  5F045EE20 ,  5F045EF05 ,  5F045EJ05

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 気相成長装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-028901   出願人：古河機械金属株式会社
• 化学蒸着に関する改良
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-147781   出願人：トーマススワンアンドカンパニーリミテッド
• CVD装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-145335   出願人：株式会社日立製作所