特許
J-GLOBAL ID：200903074567198196

平面表示装置用Ag合金系反射膜、Ag合金系反射膜形成用スパッタリングターゲット材および平面表示装置

発明者：
村田 英夫

村田 英夫 について


出願人/特許権者：
日立金属株式会社

日立金属株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-083167
公開番号（公開出願番号）：特開2003-279715
出願日： 2002年03月25日
公開日（公表日）： 2003年10月02日
要約：
【要約】【課題】 高い反射率を維持した上で、可視光範囲での反射率が一定値になり、耐熱性、耐食性を兼ね備え、さらに基板への密着性とパタニング性を改善したAg合金系反射膜とそのAg合金系反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットおよびより高品位かつ低消費電力な平面表示装置を提供する。【解決手段】 Smを0.1〜0.5at%、Auおよび/またはCuを合計で0.1〜0.5at%含み残部実質的にAgからなる平面表示装置用Ag合金系反射膜である。また、上記組成を有したAg合金系反射膜を用いた平面表示装置である。そして、本発明は、Smを0.1〜0.5at%、Auおよび/またはCuを合計で0.1〜0.5at%含み残部実質的にAgからなることを特徴とするAg合金系反射膜形成用スパッタリングターゲット材である。
請求項（抜粋）：
Smを0.1〜0.5at%、Auおよび/またはCuを合計で0.1〜0.5at%含み残部実質的にAgからなることを特徴とする平面表示装置用Ag合金系反射膜。
IPC (4件)：
G02B 5/08 ,  C22C 5/06 ,  C23C 14/34 ,  G02F 1/1335 520
FI (5件)：
G02B 5/08 A ,  G02B 5/08 Z ,  C22C 5/06 Z ,  C23C 14/34 A ,  G02F 1/1335 520
Fターム (14件)：
2H042DA04 ,  2H042DA12 ,  2H042DB06 ,  2H042DC00 ,  2H042DC02 ,  2H042DE00 ,  2H091FA14Z ,  2H091FB08 ,  2H091FC02 ,  2H091FC29 ,  4K029BA22 ,  4K029BD00 ,  4K029BD09 ,  4K029DC04
引用特許：
出願人引用 (6件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM