特許
J-GLOBAL ID：200903074610977994
フォトマスクの検査方法及び検査装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡本 啓三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-366554
公開番号（公開出願番号）：特開2007-170914
出願日： 2005年12月20日
公開日（公表日）： 2007年07月05日
要約：
【課題】洗浄処理により欠陥が除去されたか否かの判定を高精度且つ効率よく行うことができるフォトマスクの検査方法及び検査装置を提供する。【解決手段】1回目のフォトマスク110の検査において欠陥が検出されると欠陥の位置が欠陥情報記憶部117に記憶される。1枚分のフォトマスクの検査が終了すると、欠陥情報は検査結果記録部121に記録される。欠陥除去処理(洗浄処理等)を実施した後、2回目の検査を行う。この2回目の検査では、検査結果記録部121から1回目の検査結果を読み出し、1回目の検査で欠陥が検出された部分及びその周囲の領域に対応する領域の画像を受光素子114で取得する。欠陥検査部116は、受光素子114で取得した画像(画像データ)と、画像データ記憶部115に記憶された基準となる画像データとを比較して欠陥の有無を判定する。【選択図】図7
請求項（抜粋）：
画像取得部によりフォトマスクの画像を取得し、欠陥検査部により基準となる画像データと比較して欠陥を検出する第1の工程と、
前記第1の工程で検出した欠陥の位置を欠陥情報として欠陥情報記憶部に記憶する第2の工程と、
前記第2の工程で記憶した欠陥情報をフォトマスク毎に固有の識別コードに関連付けて検査結果記録部に記録する第3の工程と、
欠陥除去処理を実施する第4の工程と、
前記第3の工程で記録した前記欠陥情報を読み出し、前記欠陥除去処理後のフォトマスクから前記第1の工程で検出した欠陥の位置及びその周辺の領域のみの画像を前記画像取得部により取得し、前記欠陥検査部により基準となる画像データと比較して欠陥の有無を判定する第5の工程と
を有することを特徴とするフォトマスクの検査方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956
, G03F 1/08
, H01L 21/027
G01N21/956 A
, G03F1/08 S
, H01L21/30 502P
2G051AA56
, 2G051AB01
, 2G051AB02
, 2G051CA04
, 2G051CB02
, 2G051DA07
, 2G051DA15
, 2G051DA17
, 2G051EB01
, 2G051EB09
, 2H095BD04
, 2H095BD28
