特許

J-GLOBAL ID：200903074644934895

化学的機械的平坦化後用のアルカリ性洗浄組成物

発明者： デニアネッシュ チャンドラカント タンボリ ,  ガウタム バネルジー
出願人/特許権者： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド
代理人 (5件)： 青木 篤 ,  石田 敬 ,  古賀 哲次 ,  永坂 友康 ,  西山 雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-082369
公開番号（公開出願番号）：特開2005-307187
出願日： 2005年03月22日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：

【課題】 CMP後洗浄組成物およびそれを含む方法を提供すること。【解決手段】 洗浄組成物において、その組成物のpHが9.5〜11.5の範囲にあり、水、有機塩基、ならびにアミノポリカルボン酸およびヒドロキシルカルボン酸を含む複数のキレート剤を含むように構成する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

pHが9.5〜11.5であり、水、第4級アンモニウム水酸化物を含む有機塩基、ならびにアミノポリカルボン酸およびヒドロキシルカルボン酸を含む複数のキレート剤を含む、化学的機械的平坦化後の基板を洗浄するための組成物。

IPC (7件)：

C11D3/26 ,  C11D3/20 ,  C11D3/33 ,  C11D3/34 ,  C23G5/024 ,  C23G5/036 ,  H01L21/304

FI (8件)：

C11D3/26 ,  C11D3/20 ,  C11D3/33 ,  C11D3/34 ,  C23G5/024 ,  C23G5/036 ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/304 647B

Fターム (23件)：

4H003AC08 ,  4H003AC11 ,  4H003BA12 ,  4H003DA09 ,  4H003DA15 ,  4H003EB04 ,  4H003EB07 ,  4H003EB08 ,  4H003EB13 ,  4H003EB16 ,  4H003EB19 ,  4H003EB21 ,  4H003ED02 ,  4H003FA07 ,  4H003FA15 ,  4H003FA28 ,  4K053PA06 ,  4K053QA04 ,  4K053QA06 ,  4K053RA05 ,  4K053RA32 ,  4K053RA44 ,  4K053RA48

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-181801   出願人：花王株式会社
• 精密洗浄剤組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-127104   出願人：多摩化学工業株式会社
• 特許第6534458号