高配向グラファイト層状シ-ト物及びその製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-075546
公開番号（公開出願番号）：特開2002-274827
出願日： 2001年03月16日
公開日（公表日）： 2002年09月25日
要約：

【要約】【課題】層状構造を有し柔軟性および靭性を持つ高配向グラファイト層状シ-ト物及びその製造方法を提供する。【解決手段】 20〜200°Cにおける線膨張係数が20ppm/°C以下であるポリイミドフィルムから得られ、SEMによる断面観察によってグラファイト層状構造を有し、厚みが1〜50μmである高配向グラファイト層状シ-ト物。

請求項（抜粋）：

20〜200°Cにおける線膨張係数が20ppm/°C以下であるポリイミドフィルムから得られ、SEMによる断面観察によってグラファイト層状構造を有し、厚みが1〜50μmである高配向グラファイト層状シ-ト物。

IPC (2件)：

C01B 31/04 101 , C04B 35/52

FI (2件)：

C01B 31/04 101 Z , C04B 35/54 A

Fターム (9件)：

4G032AA04 , 4G032AA13 , 4G032BA04 , 4G032GA12 , 4G046EA03 , 4G046EB02 , 4G046EC03 , 4G046EC05 , 4G046EC06

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平1-105199
グラファイトクラッド構造材及びそれを用いたグラファイト部品
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-002852 出願人：松下電器産業株式会社
半導体としての多種の機能を持つカ-ボンの製法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-075629 出願人：宇部興産株式会社

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引用文献：

審査官引用 (2件)

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