水処理方法および水処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：須山佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-393572
公開番号（公開出願番号）：特開2002-192152
出願日： 2000年12月25日
公開日（公表日）： 2002年07月10日
要約：

【要約】【課題】半導体製造工場、医薬品製造工場、発電所などで用いられる高純度の水質が要求される純水の製造装置に適した、高い水質を得ることができる2段もしくは3段に配置した逆浸透膜装置を有する水処理方法を提供する。【解決手段】軟化装置2、軟化処理水が通水される脱ガス装置3、脱ガス処理水のpHを9.0以上に調整するアルカリ添加装置4、pHを9.0以上に調整された被処理水が通水される第1の逆浸透膜装置5、膜透過水のpHを9.0以下に調整する酸添加装置6、pHが調整された被処理水が通水される第2の逆浸透膜装置7、第1の逆浸透膜装置5の濃縮水を第3の逆浸透膜装置8に通水し、当該逆浸透膜装置からの透過水を第1の逆浸透膜装置5の前段に返送する。

請求項（抜粋）：

被処理水を軟化装置、第1の逆浸透膜装置および第2の逆浸透膜装置に順に通水して純化する水処理方法において、前記第1の逆浸透膜装置の供給水にアルカリを添加してpH9.0以上にするアルカリ添加工程と、前記第2の逆浸透膜装置の供給水に酸を添加する酸添加工程とを有することを特徴とする水処理方法。

IPC (5件)：

C02F 1/44 , B01D 61/04 , B01D 61/58 , C02F 1/20 , C02F 1/42

FI (7件)：

C02F 1/44 H , C02F 1/44 A , B01D 61/04 , B01D 61/58 , C02F 1/20 A , C02F 1/42 B , C02F 1/42 A

Fターム (39件)：

4D006GA03 , 4D006KA02 , 4D006KA03 , 4D006KA52 , 4D006KA53 , 4D006KA54 , 4D006KA55 , 4D006KA63 , 4D006KA64 , 4D006KB11 , 4D006KB12 , 4D006KB13 , 4D006KD11 , 4D006KD17 , 4D006KE15Q , 4D006KE15R , 4D006PA01 , 4D006PB06 , 4D006PB07 , 4D006PC02 , 4D006PC31 , 4D006PC42 , 4D025AA02 , 4D025AA04 , 4D025AA07 , 4D025AB34 , 4D025BA09 , 4D025BA17 , 4D025DA01 , 4D025DA03 , 4D025DA05 , 4D025DA10 , 4D037AA03 , 4D037AB11 , 4D037BA23 , 4D037BB07 , 4D037CA03 , 4D037CA14 , 4D037CA15

引用特許：

審査官引用 (4件)

逆浸透を使用する高純度の水の製造
公報種別：公表公報出願番号：特願平9-508620 出願人：ゼノンエンバイロンメンタルインコーポレーテッド
純水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-346526 出願人：栗田工業株式会社
純水の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-235770 出願人：栗田工業株式会社

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