特許
J-GLOBAL ID：200903074777873139

汚染拭き取り装置、汚染除去方法および汚染検査方法

発明者：
松崎 謙司

松崎 謙司 について

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青木 政司

青木 政司 について

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坪井 佑介

坪井 佑介 について

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伊藤 智之

伊藤 智之 について

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寺島 敏憲

寺島 敏憲 について

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川上 修

川上 修 について

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隅田 幸生

隅田 幸生 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (2件)： 菊池 治 ,  大胡 典夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-237131
公開番号（公開出願番号）：特開2007-051928
出願日： 2005年08月18日
公開日（公表日）： 2007年03月01日
要約：
【課題】 拭き取り部材の押し付け力を均一に保ちつつ、拭き取り対象物の表面の様々な状態に対応できる汚染拭き取り装置を得る。【解決手段】 6軸力センサ13によって測定された力から、拭き取り部材を取り付けるスミヤヘッド11に作用する押し付け方向の力と押し付け位置の移動方向の力を算出し、それらの力が所定の範囲になるように拭き取り部移動機構12を制御し、拭き取り対象物15の表面にスミヤヘッド11を押し付けながら、拭き取り対象物15の表面に沿う押し付け位置を変えて拭き取り対象物15の表面を拭き取る。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
拭き取り対象物の表面を拭き取る汚染拭き取り装置において、 拭き取り部材を取り付けるスミヤヘッドと、 前記拭き取り対象物の表面に前記拭き取り部材を押し付けながら、前記拭き取り対象物の表面に沿う押し付け位置を変える移動手段と、 前記スミヤヘッドに作用する、前記拭き取り部材の押し付け方向の力と前記押し付け位置の変化方向の力を求めるために必要な少なくとも2方向の力を検出する力センサと、 前記力センサからの信号に基づき、前記押し付け方向の力と前記押し付け位置の変化方向の力を所定の範囲内に保つように前記移動手段を制御する制御手段と、 を有することを特徴とする汚染拭き取り装置。
IPC (4件)：
G01T 1/169 ,  B08B 1/00 ,  G21F 9/28 ,  G01T 7/02
FI (4件)：
G01T1/169 C ,  B08B1/00 ,  G21F9/28 581Z ,  G01T7/02 Z
Fターム (18件)：
2G088EE18 ,  2G088EE21 ,  2G088EE23 ,  2G088FF04 ,  2G088FF05 ,  2G088FF06 ,  2G088HH01 ,  2G088JJ01 ,  2G088JJ09 ,  2G088JJ23 ,  2G088JJ24 ,  2G088JJ37 ,  2G088KK40 ,  2G088LL30 ,  3B116AA24 ,  3B116BA01 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43
引用特許：
出願人引用 (18件)
  • 特開昭59-70987号公報
  • 放射性廃棄物充填ドラム缶の表面汚染密度測定装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-231774   出願人：株式会社日立製作所, 日立ニユークリアエンジニアリング株式会社
  • 表面汚染検査装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-095737   出願人：株式会社東芝
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審査官引用 (11件)
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