特許
J-GLOBAL ID:200903074777873139
汚染拭き取り装置、汚染除去方法および汚染検査方法
発明者:
,
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
菊池 治
, 大胡 典夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-237131
公開番号(公開出願番号):特開2007-051928
出願日: 2005年08月18日
公開日(公表日): 2007年03月01日
要約:
【課題】 拭き取り部材の押し付け力を均一に保ちつつ、拭き取り対象物の表面の様々な状態に対応できる汚染拭き取り装置を得る。【解決手段】 6軸力センサ13によって測定された力から、拭き取り部材を取り付けるスミヤヘッド11に作用する押し付け方向の力と押し付け位置の移動方向の力を算出し、それらの力が所定の範囲になるように拭き取り部移動機構12を制御し、拭き取り対象物15の表面にスミヤヘッド11を押し付けながら、拭き取り対象物15の表面に沿う押し付け位置を変えて拭き取り対象物15の表面を拭き取る。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
拭き取り対象物の表面を拭き取る汚染拭き取り装置において、
拭き取り部材を取り付けるスミヤヘッドと、
前記拭き取り対象物の表面に前記拭き取り部材を押し付けながら、前記拭き取り対象物の表面に沿う押し付け位置を変える移動手段と、
前記スミヤヘッドに作用する、前記拭き取り部材の押し付け方向の力と前記押し付け位置の変化方向の力を求めるために必要な少なくとも2方向の力を検出する力センサと、
前記力センサからの信号に基づき、前記押し付け方向の力と前記押し付け位置の変化方向の力を所定の範囲内に保つように前記移動手段を制御する制御手段と、
を有することを特徴とする汚染拭き取り装置。
IPC (4件):
G01T 1/169
, B08B 1/00
, G21F 9/28
, G01T 7/02
FI (4件):
G01T1/169 C
, B08B1/00
, G21F9/28 581Z
, G01T7/02 Z
Fターム (18件):
2G088EE18
, 2G088EE21
, 2G088EE23
, 2G088FF04
, 2G088FF05
, 2G088FF06
, 2G088HH01
, 2G088JJ01
, 2G088JJ09
, 2G088JJ23
, 2G088JJ24
, 2G088JJ37
, 2G088KK40
, 2G088LL30
, 3B116AA24
, 3B116BA01
, 3B116CD42
, 3B116CD43
引用特許:
出願人引用 (9件)
-
特開昭59-70987号公報
-
放射性廃棄物充填ドラム缶の表面汚染密度測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-231774
出願人:株式会社日立製作所, 日立ニユークリアエンジニアリング株式会社
-
表面汚染検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-095737
出願人:株式会社東芝
-
処理剤を充填した処理塔内の集液機構
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-178506
出願人:オルガノ株式会社
-
実用新案登録第2597487号公報
-
特公平3-77472号公報
-
実開昭59-60585号公報
-
特開平2-285279号公報
-
抜取り検査装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-001132
出願人:株式会社東芝
全件表示
審査官引用 (11件)
-
特公平3-077472
-
特開昭57-079480
-
特開昭59-070987
全件表示
前のページに戻る