特許
J-GLOBAL ID:200903074800823586

ガス処理装置およびガス処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 竹中 岑生 ,  大岩 増雄 ,  児玉 俊英 ,  村上 啓吾
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-391525
公開番号(公開出願番号):特開2005-152701
出願日: 2003年11月21日
公開日(公表日): 2005年06月16日
要約:
【課題】 従来の可燃性を呈する炭化水素などの一般的にVOCと呼ばれるガスを処理する方法では、始動時に酸化触媒の入口付近の温度が触媒活性温度に達した段階で処理ガスを供給していたので、触媒全体が活性温度に達するまでの最初の数秒から数十秒間は処理ガスが酸化分解されずに放出されること、すなわち始動時に未処理ガスがスリップする問題があった。【解決手段】 被処理ガス10を通流する流路2と、この流路の上流側に配設された被処理ガスを通流する第1の触媒層6Aと、この第1の触媒層の下流側に離間して設けられ該第1の触媒層を通過したガスを通流する第2の触媒層6Bと、始動時に上記第1の触媒層を少なくとも触媒活性温度以上に予備加熱するための加熱手段5とを備えるように構成したものである。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被処理ガスを加熱された触媒に接触させて反応処理を行うガス処理装置において、被処理ガスを通流する流路と、この流路の上流側に配設された被処理ガスを通流する第1の触媒層と、この第1の触媒層の下流側に離間して設けられ該第1の触媒層を通過したガスを通流する第2の触媒層と、始動時に上記第1の触媒層を少なくとも触媒活性温度以上に予備加熱するための加熱手段とを備えたことを特徴とするガス処理装置。
IPC (1件):
B01D53/86
FI (1件):
B01D53/36 G
Fターム (5件):
4D048AA17 ,  4D048AA18 ,  4D048AB01 ,  4D048CC32 ,  4D048CC52
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 特開平4-071620
  • 内燃機関用排気ガス浄化装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-011769   出願人:松下電器産業株式会社
  • 車両用排ガス浄化装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平6-040354   出願人:株式会社ゼクセル
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