金属酸化物粒子の表面処理方法、該表面処理金属酸化物粒子を含む分散液、透明被膜形成用塗布液および透明被膜付基材

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田政久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-198437
公開番号（公開出願番号）：特開2009-035573
出願日： 2007年07月31日
公開日（公表日）： 2009年02月19日
要約：

【課題】分散性、分散安定性に優れた金属酸化物粒子の効率的な表面処理方法を提供す。【解決手段】金属酸化物粒子の水および/または有機溶媒分散液に、下記式(1)で表される有機ケイ素化合物を加えて加水分解し、ついで、下記式(2)で表される有機ケイ素化合物を加えて加水分解する。 (NH2-CnH2n-Z- CmH2m)L -Si-Y4-L (1)(但し、式中、Z:-NH、-CH2、Y:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素。L:1〜3の整数,n:0〜10の整数、m:0〜10の整数。) Rp-SiX4-p (2)(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、p:1〜3の整数、但し、アミノ基置換炭化水素基を除く。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

金属酸化物粒子の水および/または有機溶媒分散液に、下記式(1)で表される有機ケイ素化合物を加えて加水分解し、ついで、下記式(2)で表される有機ケイ素化合物を加えて加水分解することを特徴とする金属酸化物粒子の表面処理方法。 (NH2-CnH2n-Z-CmH2m)L-Si-Y4-L (1) (但し、式中、Z:-NH、-CH2、Y:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素。L:1〜3の整数,n:0〜10の整数、m:0〜10の整数。) Rp-SiX4-p (2) (但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素、p:1〜3の整数、但し、置換炭化水素基中アミノ基置換炭化水素基を除く。)

IPC (8件)：

C09C 3/12 , C09C 1/28 , C09C 1/40 , C09C 1/36 , C09C 1/04 , C09D 201/00 , C09D 7/12 , C01B 13/14

FI (8件)：

C09C3/12 , C09C1/28 , C09C1/40 , C09C1/36 , C09C1/04 , C09D201/00 , C09D7/12 , C01B13/14 A

Fターム (55件)：

4G042DA02 , 4G042DB28 , 4G042DC03 , 4G042DD04 , 4G042DE03 , 4G042DE09 , 4G042DE14 , 4J037AA08 , 4J037AA11 , 4J037AA18 , 4J037AA22 , 4J037AA25 , 4J037CB23 , 4J037CC28 , 4J037EE02 , 4J037EE04 , 4J037EE08 , 4J037EE11 , 4J037EE14 , 4J037EE28 , 4J037EE43 , 4J037FF15 , 4J037FF17 , 4J037FF23 , 4J038CD02 , 4J038CD09 , 4J038CE07 , 4J038CF02 , 4J038CG001 , 4J038DA00 , 4J038DB00 , 4J038DD00 , 4J038DE00 , 4J038DF06 , 4J038DG00 , 4J038DH00 , 4J038DL001 , 4J038DL02 , 4J038DL03 , 4J038FA11 , 4J038HA216 , 4J038HA446 , 4J038JA17 , 4J038JA25 , 4J038JA32 , 4J038JA55 , 4J038KA03 , 4J038KA06 , 4J038KA08 , 4J038KA20 , 4J038MA09 , 4J038NA11 , 4J038NA17 , 4J038PA17 , 4J038PC08

引用特許：

審査官引用 (9件)

シラン処理シリカフィルター媒体を用いる飲料中の異臭を抑制または減少させる方法
公報種別：公表公報出願番号：特願2007-546727 出願人：ダウ・コーニング・コーポレイション, ジェネンコア・インターナショナル,インコーポレイテッド
現像装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-174990 出願人：株式会社沖データ
特開昭63-196621

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