特許

J-GLOBAL ID：200903091198725294

シリカ微粉体、その製造方法及び用途

発明者： 八代 尚作 ,  内藤 栄俊 ,  岩佐 光芳
出願人/特許権者： 電気化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-386322
公開番号（公開出願番号）：特開2005-148448
出願日： 2003年11月17日
公開日（公表日）： 2005年06月09日
要約：

【課題】アミノ基含有シランカップリング剤により表面処理された、凝集性の小さいシリカ微粉体を提供する。このシリカ微粉体の容易な製造方法を提供する。更には、このシリカ微粉体からなる印字性持続効果に優れた正帯電トナー用外添剤を提供する。【解決手段】一次粒子平均径が1μm以下の球状シリカ粉体が、アミノ基含有シランカップリング剤によって表面処理されてなるものであって、JIS K 5400の粒ゲージ法による凝集粒子検出数が2本以下であることを特徴とするシリカ微粉体。疎水性シランカップリング剤及び/又はシリコーンオイルにより更に疎水化処理された上記シリカ微粉体。これらのシリカ微粉体からなる正帯電トナー用外添剤。上記シリカ微粉体の製造方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

一次粒子平均径が1μm以下の球状シリカ粉体が、アミノ基含有シランカップリング剤によって表面処理されてなるものであって、JIS K 5400の粒ゲージ法による凝集粒子検出数が2本以下であることを特徴とするシリカ微粉体。

IPC (1件)：

G03G9/08

FI (2件)：

G03G9/08 375 ,  G03G9/08 371

Fターム (6件)：

2H005AA08 ,  2H005AB02 ,  2H005CA26 ,  2H005CB13 ,  2H005DA03 ,  2H005EA05

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特許第1946047号公報
  
• 特許第2850016号公報
  
• 疎水性シリカ微粉末の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-084891   出願人：信越化学工業株式会社

審査官引用 (10件)

• 静電荷像現像剤とその製造方法および画像形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-059202   出願人：富士ゼロックス株式会社
• 特開平2-308173
  
• 疎水性シリカ粉体、その製法および電子写真用現像剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-016454   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 特開昭59-034539
  
• 特開昭59-044059
  
• 特開昭59-045457
  
• 特開昭59-162567
  
• トナー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-366078   出願人：日本ゼオン株式会社
• 静電荷像現像剤
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-058285   出願人：信越化学工業株式会社
• 疎水性シリカ微粉末の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-084891   出願人：信越化学工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• KJIS5400-1979 16-18頁