特許
J-GLOBAL ID:200903074835412201

フォトニック結晶導波路およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 秋田 収喜
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-021139
公開番号(公開出願番号):特開平11-218627
出願日: 1998年02月02日
公開日(公表日): 1999年08月10日
要約:
【要約】【課題】 フォトニック結晶導波路の特性の安定化、製造コストを低減。【解決手段】 基板の表面にスラブ光導波路を有するとともに前記スラブ光導波路の一部にスラブ光導波路のコア層の屈折率と異なる屈折率を有する屈折率変化領域が格子配列状に配置されたフォトニック結晶構造が設けられたフォトニック結晶導波路であって、前記屈折率変化領域は前記スラブ光導波路のコア層を構成する材質と同じ材質のもので構成されている。光が伝播する光導波領域の両側にそれぞれ屈折率変化領域が格子配列状に配置されている。前記屈折率変化領域のコア層の屈折率は屈折率変化領域から外れた領域のコア層の屈折率よりも大きく、その比屈折率差は10~4〜10~2程度であることを特徴とする。単位格子は正三角形配列になっている。
請求項(抜粋):
基板の表面に誘電体スラブ光導波路を有するとともに前記スラブ光導波路の一部にスラブ光導波路のコア層の屈折率と異なる屈折率を有する屈折率変化領域が格子配列状に配置されたフォトニック結晶構造が設けられたフォトニック結晶導波路であって、前記屈折率変化領域は前記スラブ光導波路のコア層を構成する材質と同じ材質でかつ光誘起効果による屈折率変化処理が施された材質で構成されていることを特徴とするフォトニック結晶導波路。
FI (2件):
G02B 6/12 C ,  G02B 6/12 A
引用特許:
審査官引用 (9件)
  • 光導波路及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-179155   出願人:日立電線株式会社
  • ポリマ導波路及びその製造方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-113732   出願人:日立電線株式会社
  • 特開平3-171009
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