特許
J-GLOBAL ID：200903093111205756
ポリマ導波路及びその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-113732
公開番号（公開出願番号）：特開平9-297232
出願日： 1996年05月08日
公開日（公表日）： 1997年11月18日
要約：
【要約】【課題】 光損失の少ないポリマ導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】 ポリマ材料中に含まれているCH基の結合を切断することによって、CH基による光の固有吸収損失が低減する。このCH基を切断するためにはCH基の結合解離エネルギー約100Kcal/molよりも大きい光子エネルギー(約120Kcal/mol)をもつKrFエキシマレーザ(波長約249nm)23か或いは、光子エネルギーが約125Kcal/molのKrClエキシマレーザ(波長222nm)の光をポリマ材料に照射すればよい。このようなエキシマレーザ光23が照射されたポリマ材料からなるコア21を用いることによりポリマ導波路の光損失が低減する。
請求項（抜粋）：
基板上に形成された低屈折率のクラッド層内に、該クラッド層よりも屈折率が高い略矩形断面形状のコアが設けられたポリマ導波路において、上記コアがKrF或いはKrClエキシマレーザ光を照射することによりCH基が低減されていることを特徴とするポリマ導波路。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 N
, G02B 6/12 M
