光導波路及びその製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：平田忠雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-179155
公開番号（公開出願番号）：特開平10-020134
出願日： 1996年07月09日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：

【要約】【課題】光導波路が簡単な工程によって短時間且つローコストに製作することができるようにする。【解決手段】基板1上に、バッファ層2、Fを添加したSiO2 層3を順次成膜する。SiO2 層3に対し、所定位置にレーザ光を照射してコア層4を形成する。更に、コア層4及びSiO2 層3を覆うようにFを添加したSiO2 層5を成膜する。レーザ光が照射されることにより、その熱エネルギーによって照射部分のSiO2 層の屈折率が変化するので、これをコア層4として用いることができる。

請求項（抜粋）：

基板と、前記基板上に形成され、屈折率制御用添加物が少なくとも1種添加された第1のSiO2 層と、前記第1のSiO2 層の所定位置にレーザ光を照射し、前記第1のSiO2 層より屈折率が高くなるように形成したコア層と、前記第1のSiO2 層及び前記コア層を覆うように設けられた第2のSiO2層とを具備することを特徴とする光導波路。

IPC (2件)：

G02B 6/12 , G02B 6/13

FI (2件)：

G02B 6/12 N , G02B 6/12 M

引用特許：

審査官引用 (7件)

光導波路及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-225034 出願人：住友電気工業株式会社
光学素子を含む物品及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-103350 出願人：アメリカンテレフォンアンドテレグラフカムパニー
光導波路およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-336725 出願人：エイ・ティ・アンド・ティ・コーポレーション

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