特許
J-GLOBAL ID:200903074944358500

ポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた電子装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平木 祐輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-132042
公開番号(公開出願番号):特開平9-319082
出願日: 1996年05月27日
公開日(公表日): 1997年12月12日
要約:
【要約】【課題】 アルカリ現像可能な高信頼性のポジ型感光性樹脂組成物及びそれを用いた電子装置の提供。【解決手段】 カルボキシル基を有するジアミンを構成単位とするとともに、疎水性基を有するポリアミド酸エステルと、オルトキノンジアジドスルホンアミド化合物及び/又はオルトキノンジアジドスルホンアミドスルホンエステル化合物とを含有することを特徴とする、アルカリ水溶液で現像可能なポジ型感光性樹脂組成物、ならびにそれを用いた電子装置。【効果】 未露光部の浸食のない良好なポジ型のレリーフパターンを有するポリイミド膜が得られる。
請求項(抜粋):
下記一般式(I)【化1】(式中、R1 は2価の有機基を示す(但し、R1 の55〜85モル%はカルボキシル基を有する)。R2 は疎水性基を示す。Xは-O-、-C(=O)-、又は直接結合を示す。nは6〜570 である。)で表わされるポリアミド酸エステルと、下記一般式(II)【化2】(式中、R3 はオルトキノンジアジドスルホニル基を示し、R4 は炭素数2〜30の有機基を示し、R5 はアルキル基又は水素を示す。mは1〜6である。)で表わされるオルトキノンジアジドスルホンアミド化合物及び/又は下記一般式(III)【化3】(式中、R3 はオルトキノンジアジドスルホニル基を示し、R4 は炭素数2〜30の有機基を示し、R5 はアルキル基又は水素を示す。m1 は1〜5であり、m2は1〜6である。)で表わされるオルトキノンジアジドスルホンアミドスルホンエステル化合物とを含有することを特徴とする、アルカリ水溶液で現像可能なポジ型感光性樹脂組成物。
IPC (3件):
G03F 7/022 ,  C08L 79/08 LRB ,  C09D179/08 PLW
FI (3件):
G03F 7/022 ,  C08L 79/08 LRB ,  C09D179/08 PLW
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • ポジ型感光性樹脂組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平3-165320   出願人:住友ベークライト株式会社
  • 特開平4-046345
  • 特開平4-168441
全件表示

前のページに戻る