特許
J-GLOBAL ID：200903074966744897
研磨装置及び研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 朝道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-231956
公開番号（公開出願番号）：特開2000-061812
出願日： 1998年08月18日
公開日（公表日）： 2000年02月29日
要約：
【要約】【課題】研磨対象の相違や研磨手段の経時変化に拘わらず、安定した研磨を可能とする研磨装置及び研磨方法の提供。【解決手段】ウエハ2を研磨する研磨パッド1、研磨パッド1が貼着された研磨テーブル3、研磨テーブル3を駆動するテーブルモータ8、研磨と同時進行で研磨パッド1のコンディショニングを行うコンディショニング手段5、研磨中にコンディショニング条件を設定するコンディショニング制御系12を有し、研磨パッド1とウエハ2間の摩擦力に比例したトルク電流10が一定となるように研磨パッド1のコンディショニング条件を設定し、研磨速度を安定化させる。
請求項（抜粋）：
基板を研磨する研磨手段と、前記基板の研磨中に前記研磨手段をコンディショニングするコンディショニング手段と、前記基板の研磨中に前記研磨手段と該基板との間に作用する摩擦力に基づき、前記コンディショニング手段を制御するコンディショニング制御系と、を有することを特徴とする研磨装置。
IPC (2件)：
B24B 37/00
, H01L 21/304 622
B24B 37/00 A
, H01L 21/304 622 M
3C058AA07
, 3C058AA19
, 3C058AC04
, 3C058AC05
, 3C058BA06
, 3C058BC02
, 3C058CB01
, 3C058DA02
, 3C058DA17
