特許

J-GLOBAL ID：200903011861436869

多孔体及びその製造方法

発明者： 矢野 一久 ,  佐々木 有理 ,  中村 忠司 ,  堀井 満正 ,  福嶋 喜章 ,  佐藤 英明
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所 ,  株式会社デンソー
代理人 (1件)： 岡田 英彦 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-284216
公開番号（公開出願番号）：特開2001-157815
出願日： 2000年09月19日
公開日（公表日）： 2001年06月12日
要約：

【要約】【課題】低蒸気圧下においても高い水蒸気吸着能を備える、多孔体を提供する。【解決手段】界面活性剤の存在下、製造する多孔体の骨格原料の溶液中における濃度が0.4mol/l以下、界面活性剤/骨格原料(Siとして)のモル比が0.05以上50以下である溶液中で、骨格原料を縮合させて縮合物を得る工程と、この縮合物から界面活性剤を除去する工程、とにより、相対蒸気圧が10%で0.1g/g以下、28%で0.2g/g以上の水蒸気吸着能を有する多孔体を得る。

請求項（抜粋）：

骨格を有する多孔体であり、水蒸気吸着等温線において、相対蒸気圧が10%で0.1g/g以下、28%で0.2g/g以上の水蒸気吸着能を有する、多孔体。

IPC (7件)：

B01D 53/28 ,  B01D 53/26 101 ,  B01J 20/18 ,  C01B 33/26 ,  C01B 37/00 ,  C01B 39/00 ,  C01B 39/02

FI (7件)：

B01D 53/28 ,  B01D 53/26 101 A ,  B01J 20/18 E ,  C01B 33/26 ,  C01B 37/00 ,  C01B 39/00 ,  C01B 39/02

Fターム (27件)：

4D052AA10 ,  4D052CA08 ,  4D052HA03 ,  4G066AA30A ,  4G066AA61B ,  4G066AB18A ,  4G066AB21A ,  4G066BA36 ,  4G066CA43 ,  4G066DA01 ,  4G066FA03 ,  4G066FA21 ,  4G066FA22 ,  4G066FA37 ,  4G073BA57 ,  4G073BB58 ,  4G073BD11 ,  4G073BD21 ,  4G073CE01 ,  4G073FA15 ,  4G073FB26 ,  4G073FB42 ,  4G073FD01 ,  4G073FE04 ,  4G073GA13 ,  4G073GA19 ,  4G073UA06

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 耐熱性層状シリカ多孔体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-200255   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 特開平4-238810
  
• クラスター包接材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-262668   出願人：株式会社豊田中央研究所

審査官引用 (4件)

• クラスター包接材料
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-262668   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 耐熱性層状シリカ多孔体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-200255   出願人：株式会社豊田中央研究所
• 特開平4-238810
  
• 特開平4-238810