特許
J-GLOBAL ID：200903075085046093

基板処理装置

発明者：
吉岡 和敏

吉岡 和敏 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-310780
公開番号（公開出願番号）：特開2000-138276
出願日： 1998年10月30日
公開日（公表日）： 2000年05月16日
要約：
【要約】【課題】 被処理基板の搬送時における装置内のダウンフローの気流の乱れを抑制し、被処理基板表面に塵埃が付着することに起因しての歩留りの低下を抑制することのできる基板処理装置を提供する。【解決手段】 処理ステーション11内には、中央に搬送路31が設けられ、この搬送路31の両側に各種処理ユニット群が配設されている。搬送路31内にはダウンフローが形成され、処理ユニットに対する搬入・搬出時にウエハWを水平とし、各処理ユニットに対する搬入・搬出時以外は、少なくとも一時ウエハWを略垂直として搬送するウエハ搬送機構32、33が設けられている。
請求項（抜粋）：
被処理基板を処理する複数の処理ユニットと、前記処理ユニットの間に設けられ、上部から下部に向けて清浄空気の流れが形成された搬送路と、前記搬送路に設けられ、前記被処理基板を保持して前記各処理ユニットに対して前記被処理基板の搬入・搬出を行う搬送機構であって、前記被処理基板の前記各処理ユニットに対する搬入・搬出時に前記被処理基板を水平とし、前記各処理ユニットに対する搬入・搬出時以外は、少なくとも一時前記被処理基板を略垂直として搬送する搬送機構とを具備したことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
H01L 21/68 A ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 502 J ,  H01L 21/30 503 G
Fターム (23件)：
2H025EA05 ,  2H025FA15 ,  4F042AA07 ,  5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA17 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA13 ,  5F031FA18 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031NA02 ,  5F046JA04 ,  5F046JA16 ,  5F046LA01 ,  5F046LA11
引用特許：
審査官引用 (3件)

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