特許
J-GLOBAL ID：200903075208650853

放射線変換基板、放射線撮影装置および放射線撮影システム

発明者：
小川 善広

小川 善広 について

, 
江本 健吾

江本 健吾 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-265572
公開番号（公開出願番号）：特開2004-103934
出願日： 2002年09月11日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：
【課題】蛍光体層と防湿保護層との層間剥離を防止する。【解決手段】少なくとも、放射線透過性基板11上に、放射線を光に変換する、ハロゲン化アルカリと発光付活剤からなる蛍光体層12、および防湿保護層を積層してなる放射線変換基板において、防湿保護層が、シラン系化合物をモノマーとする第一のプラズマ重合膜13と、含フッ素化合物不飽和炭化水素をモノマーとする第二のプラズマ重合膜14とから形成されている。この放射線変換基板と、光電変換素子を有するセンサ基板とを貼り合わせて放射線撮影装置を構成する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
少なくとも、放射線透過性基板上に、放射線を光に変換する蛍光体層、および防湿保護層を積層してなる放射線変換基板において、該防湿保護層がシラン系化合物をモノマーとする第一のプラズマ重合膜と、含フッ素化合物不飽和炭化水素をモノマーとする第二のプラズマ重合膜とから形成されていることを特徴とする放射線変換基板。
IPC (3件)：
H01L27/14 ,  A61B6/00 ,  G01T1/20
FI (4件)：
H01L27/14 D ,  A61B6/00 300S ,  G01T1/20 L ,  H01L27/14 K
Fターム (24件)：
2G088EE02 ,  2G088FF02 ,  2G088GG19 ,  2G088JJ09 ,  2G088JJ35 ,  4C093CA41 ,  4C093EB12 ,  4C093EB17 ,  4C093FH06 ,  4M118AB01 ,  4M118BA05 ,  4M118CA02 ,  4M118CA31 ,  4M118CA32 ,  4M118CB06 ,  4M118CB11 ,  4M118EA01 ,  4M118EA20 ,  4M118FB03 ,  4M118FB09 ,  4M118FB13 ,  4M118HA23 ,  4M118HA24 ,  4M118HA25
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM