プラズマ発生装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：宇井正一 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-313369
公開番号（公開出願番号）：特開平6-228749
出願日： 1993年12月14日
公開日（公表日）： 1994年08月16日
要約：

【要約】【目的】スパッタリング、エッチング、プラズマCVD法など、真空室内の基板処理に用いられるプラズマ発生装置に関する。【構成】ターゲット(1)の形式で上面に処理すべき材料を含む陰極(17,5,2,1)を備え、プラズマ発生装置はターゲットの背面領域上に少くとも1個の磁石装置(10,11,12)を具備し、陰極面上にトンネル脚磁極(16)を形成する少くとも1個のトンネル状磁界(15)を陰極面の領域に発生させ、それによりトンネル状磁界(15)は水平トンネル軸の一部に沿って伸び、この磁石装置(10,11,12)は水平トンネル軸に向け少くとも1個のトンネル脚磁極(16)を変位させるように駆動部を処理する。

請求項（抜粋）：

ターゲット(1)の形式で陰極上面に処理すべき材料を含む陰極(17,5,2,1)を備え、真空室内で複数の基板の処理に用いられるプラズマ発生装置であって、該装置は、ターゲットの背面側領域に少くとも1個の磁石装置(10,11,12)を具備し、該陰極表面の領域内において該陰極表面上にトンネル脚部磁極(16)を形成する少くとも1個のトンネル状磁石磁界(15)を発生せしめ、それによりトンネル状磁界(15)は水平方向トンネル軸の少くとも一部に沿って伸展し、かつこの磁石装置(10,11,12)は、少くとも1個のトンネル脚部磁極(16)を、水平方向トンネル軸に対し長手方向に変位せしめる如く駆動部を処理することを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (2件)：

C23C 14/35 , H01J 37/34

引用特許：

出願人引用 (9件)

特開平3-104864
特開平3-229867
特開平3-294477

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審査官引用 (9件)

特開平4-350162
特開平4-346662
特開平3-294477

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